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二氧化硅玻璃陶瓷刻蚀化学及HF辅助刻蚀的观察

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2022-03-02 13:58:36751

二氧化硅蚀刻标准操作程序研究报告

缓冲氧化物蚀刻(BOE)或仅仅氢氟酸用于蚀刻二氧化硅在硅上晶片。 缓冲氧化蚀刻是氢氟酸和氟化铵的混合物。含氟化铵的蚀刻使硅表面具有原子平滑的表面高频。 由于这一过程中所涉及的酸具有很高的健康风险,建议用户使用在执行工艺之前,请仔细阅读材料安全数据表。
2022-03-10 16:43:35798

用湿化学工艺制备的超薄氧化硅结构

近十年来,湿化学法制备超薄二氧化硅/硅和超薄二氧化硅/硅结构的技术和研究取得了迅速发展。这种结构最重要是与大尺寸硅晶片上氧化物层的均匀生长有关。
2022-03-11 13:57:22828

通过湿法化学刻蚀制备多孔氧化锌薄膜

)、扫描电子显微镜(SEM)和光致发光(PL)光谱进行表征,以允许对它们的结构和光学性质进行检查。XRD结果表明,当薄膜在不同的氢氮浓度下刻蚀不同的时间时,ZnO的强度降低。上述观察归因于氧化锌的溶解
2022-04-24 14:58:20930

硅化物膜的溅射刻蚀速率研究

我们测量了硅化物膜(CoSi2、NiSi2、TiSi2和WSi)的溅射刻蚀速率,并研究了离子能量的依赖性,发现它们与二氧化硅薄膜的相对溅射刻蚀速率几乎与溅射离子能量无关,从相对溅射蚀刻速率和计算
2022-05-07 15:41:461126

在超临界二氧化碳中蚀刻氧化硅薄膜

介绍 硅或二氧化硅已被用作牺牲层来制造独立式结构,例如微机电系统(MEMS)中的梁、悬臂和隔膜。传统的含水HF已经广泛用于蚀刻二氧化硅牺牲层,因为它成本低廉。然而,当具有高纵横比的结构在含水
2022-05-23 17:01:43948

氧化物涂层晶圆概述

当应用于硅(Si)、玻璃和其他材料时,二氧化硅(SiO2)涂层提供介电层或钝化层,用于半导体、MEMS、生物医学、储能设备和其他应用的晶片类型。
2022-07-26 14:56:261236

紫外照射装置的透视窗采用什么玻璃

碱金属、碱土金属氧化物的不同含量,又分为: 1、石英玻璃 石英玻璃二氧化硅含量大于99.5%,其热膨胀系数低、耐高温、化学稳定性好、透紫外光和红外光、熔制温度高、粘度大、成型较难。石英玻璃多用于半导体、电光源、光导通
2022-08-01 10:01:311670

常见的各向同性湿法刻蚀的实际应用

湿法刻蚀也称腐蚀。硅的湿法刻蚀是 MEMS 加工中常用的技术。其中,各向同性 (Isotropic)湿法刻蚀常用的腐蚀剂是由氢氟酸(HF)、硝酸( HNO3)和乙酸(CH3COOH)组成的混合物
2022-10-08 09:16:323581

嵌入式源漏选择性外延(Embedded Source and Drain Selective Epitaxy)

源漏选择性外延一般采用氮化硅二氧化硅作为硬掩模遮蔽层,利用刻蚀气体抑制遮蔽层上的外延生长,仅在曝露出硅的源漏极区域实现外延生长。
2022-11-29 16:05:151708

湿法刻蚀工艺的流程包括哪些?

湿法刻蚀利用化学溶液溶解晶圆表面的材料,达到制作器件和电路的要求。湿法刻蚀化学反应的生成物是气体、液体或可溶于刻蚀剂的固体。
2023-02-10 11:03:184085

化学刻蚀、纯物理刻蚀及反应式离子刻蚀介绍

刻蚀有三种:纯化学刻蚀、纯物理刻蚀,以及介于两者之间的反应式离子刻蚀(ReactiveIonEtch,RIE)。
2023-02-20 09:45:072586

划片机:晶圆加工第二篇—关于晶圆氧化过程,这些变量会影响它的厚度

有机物、金属等杂质及蒸发残留的水分。清洁完成后就可以将晶圆置于800至1200摄氏度的高温环境下,通过氧气或蒸气在晶圆表面的流动形成二氧化硅(即“氧化物”)层。氧气
2022-07-10 10:27:31965

划片机:晶圆加工第四篇—刻蚀的两种方法

:使用特定的化学溶液进行化学反应来去除氧化膜的湿法刻蚀,以及使用气体或等离子体的干法刻蚀。1、湿法刻蚀使用化学溶液去除氧化膜的湿法刻蚀具有成本低、刻蚀速度快和生产率高
2022-07-12 15:49:251454

刻蚀分为哪两种方式 刻蚀的目的和原理

刻蚀(Etching)的目的是在材料表面上刻出所需的图案和结构。刻蚀的原理是利用化学反应或物理过程,通过移除材料表面的原子或分子,使材料发生形貌变化。
2023-08-01 16:33:383915

半导体材料是什么 半导体材料是硅还是二氧化硅

硅(Si)、二氧化硅(SiO2)、锗(Ge)等。其中,硅是最为常见和广泛应用的半导体材料之一。 硅是地壳中非常丰富的元素之一,它具有较高的化学稳定性、热稳定性和机械性能,因此硅材料具有广泛的应用前景。硅晶体的晶体结构为钻
2024-02-04 09:46:07458

二氧化碳传感器的分类及其原理

碳传感器的分类及其工作原理。 二氧化碳传感器可以根据其传感原理的不同分为以下几类: 1. 电化学传感器: 电化学传感器是利用电化学反应来检测环境中二氧化碳浓度的传感器。最常见的电化学传感器是基于氧化还原反应的传感器。
2024-03-06 14:58:46227

刻蚀机是干什么用的 刻蚀机和光刻机的区别

刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似,先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜,再将掩膜与待加工物料模组装好,将样品置于刻蚀室内,通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将待加工物料表面的非掩膜区域刻蚀掉,以得到所需的凹槽和沟槽。
2024-03-11 15:38:24471

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