镍氢电池隔膜中磺化隔膜相对理想的原因分析
镍氢电池隔膜的亲水化处理常用的方法有磺化处理、等离子体处理、氟化处理、接枝处理、电晕处理（结合表面活性剂进行
2009-11-10 09:37:35
1269 这本文中，我们提出了一种精确的，低损伤的循环刻蚀AlGaN/GaN的新方法，用于精确的势垒凹陷应用，使用ICP-RIE氧化和湿法刻蚀。设备功率设置的优化允许获得宽范围的蚀刻速率~0.6至~11纳米/周期，而相对于未蚀刻的表面，表面粗糙度没有任何可观察到的增加。
2021-12-13 16:07:582195 
的电子和光电子器件的制造中对高选择性湿法化学蚀刻剂的额外需求，还进行了广泛的研究以检验多种蚀刻溶液。列出了这些蚀刻剂的蚀刻速率、选择性和表面粗糙度，以验证它们对预期应用的适用性。尽管频繁使用GaSb
2022-05-11 14:00:421025 
引言 氢氧化钾(KOH)是一种用于各向异性湿法蚀刻技术的碱金属氢氧化物，是用于硅晶片微加工的最常用的硅蚀刻化学物质之一。各向异性蚀刻优先侵蚀衬底。也就是说，它们在某些方向上的蚀刻速度比在其
2022-07-14 16:06:062775 
湿法蚀刻工艺的原理是利用化学溶液将固体材料转化为liquid化合物。由于采用了高选择性化学物质可以非常精确地适用于每一部电影。对于大多数解决方案选择性大于100:1。
2022-07-27 15:50:252109 
湿法蚀刻工艺的原理是使用化学溶液将固体材料转化为液体化合物。选择性非常高，因为所用化学药品可以非常精确地适应各个薄膜。对于大多数解决方案，选择性大于100：1。
2021-01-08 10:12:57
我司是做湿法蚀刻药水的，所以在湿法这块有很多年的研究。所以有遇到湿法蚀刻问题欢迎提问，很愿意为大家解答。谢谢！QQ：278116740
2017-05-08 09:58:09
为了在基板上形成功能性的MEMS结构，必须蚀刻先前沉积的薄膜和/或基板本身。通常，蚀刻过程分为两类：浸入化学溶液后材料溶解的湿法蚀刻干蚀刻，其中使用反应性离子或气相蚀刻剂溅射或溶解材料在下文中，我们将简要讨论最流行的湿法和干法蚀刻技术。
2021-01-09 10:17:20
都属于有机溶剂，属于可燃性溶剂，闪点比较高，毒性比较低，使用上比较安全，但是须用水进行漂洗，然后进行烘干。有些清洗剂中添加5%~20%的水和少量表面活性剂，既降低了可燃性，又可使漂洗更为容易。半水清洗
2018-09-14 16:39:40
须用水进行漂洗，然后进行烘干。有些清洗剂中添加5%~20%的水和少量表面活性剂，既降低了可燃性，又可使漂洗更为容易。半水清洗工艺特点是： （1） 清洗能力比较强，能同时除去极性污染物和非极性污染物
2018-09-13 15:47:25
的发展方向的水清洗技术，须设置纯清水源和排放水处理车间。它以水作为清洗介质，并在水中添加表面活性剂、助剂、缓蚀剂、螯合剂等形成一系列以水为基的清洗剂。可以除去非极性污染物和水溶剂。其清洗工艺特点是
2018-01-15 11:03:23
= − C ·Δf/n.谐振器的衰减与被吸附的质量成正比。QCM石英微天平应用广泛，例如生物技术，免疫反应，免疫传感器，气体传感器，DNA和RNA的相互作用， 表面活性剂的效果，电镀技术，在线监测
2020-05-12 10:45:38
进行烘干。有些清洗剂中添加5%~20%的水和少量表面活性剂，既降低了可燃性，又可使漂洗更为轻易。半水清洗工艺特点是： 1） 清洗能力比较强，能同时除去极性污染物和非极性污染物，洗净能力持久性较强； 2
2012-07-23 20:41:56
：MacEtch 是一种湿法蚀刻工艺，可提供对取向、长度、形态等结构参数的可控性，此外，它是一种制造极高纵横比半导体纳米结构的简单且低成本的方法。 3 该工艺利用了在氧化剂（例如过氧化氢 (H2O2)）和酸（例如
2021-07-06 09:33:58
使用化学溶液去除材料。在 CMOS 制造中，湿法工艺用于清洁晶片和去除薄膜。湿法清洁过程在整个工艺流程中重复多次。一些清洁过程旨在去除微粒，而另一些则是去除有机和/或无机表面污染物。湿蚀刻剂可以是各向同性
2021-07-06 09:32:40
由于集成电路 (IC) 规模的不断减小以及对降低成本 、提高产量和环境友好性的要求不断提高，半导体器件制造创新技术的发展从未停止过。最近在硅湿法清洗工艺中引入臭氧技术以取代传统的 RCA 方法引起了业界的兴趣
2021-07-06 09:36:27
镓和碳化硅的各种蚀刻剂，包括水性无机酸和碱溶液以及熔融盐。湿法刻蚀在宽带隙半导体技术中有多种应用，包括缺陷装饰、通过产生特征凹坑或小丘识别极性和多型(用于碳化硅)以及在光滑表面上制造器件。对于氮化镓
2021-10-14 11:48:31
湿法蚀刻 InGaP 和 GaAs 的结果。以前，发现这些蚀刻剂产生令人满意的效果。 然而，这些解决方案的一个严重缺点是它们会侵蚀金，金随后可能会重新沉积在 MESA 结构的斜面和蚀刻表面本身上。因此
2021-07-09 10:23:37
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：光刻前 GaAs 表面处理以改善湿化学蚀刻过程中的光刻胶附着力和改善湿蚀刻轮廓[/td][td]编号：JFSJ-21-0作者：炬丰科技网址：http
2021-07-06 09:39:22
，干法蚀刻制备的氮化镓（GaN）侧壁通常具有较大的粗糙度和蚀刻损伤，这会导致由于表面非辐射复合导致的光学散射和载流子注入损失引起的镜面损失。详细研究了干法蚀刻形成的GaN侧壁面的湿化学抛光工艺，以去除蚀刻
2021-07-09 10:21:36
镜面硅结构时，表面的平滑度和蚀刻速率是关键参数。我们展示了一种从单晶硅创建 45° 和 90° 蚀刻平面的方法，用作微流体装置中的逆反射侧壁。该技术使用相同的光刻图案方向，但使用两种不同的蚀刻剂。用
2021-07-19 11:03:23
方法近年来引起了世界范围内的重视。这种技术是在焊前将焊缝表面涂敷上一层活性焊剂(简称活性剂)，在相同的焊接规范下，同常规的TIG焊相比，可以大幅度地提高熔深(最大可达300%)。对于8mm的厚板焊接可以
2009-05-24 14:31:01
磁性流体是一种随磁场而变化的液体。它是由纳米级的导磁金属微粒(直径为10nm，吸烟时产生的烟雾中所含粒子的1/20)、表面活性剂以及载液所组成。由于金属微粒表面被覆盖着-层表面活性剂，并均匀地分散于载液中，所以磁性流体稳定性非常好。
2023-03-27 14:33:50
厂家来一下其他功能和性能：助焊剂的功能部分包括：基质、去膜剂和界面活性剂。基质是助焊剂的主体成分，控制着助焊剂的熔点，其熔化后覆盖在焊点表面，起隔绝空气的作用，同时，它又是其它功能组元的溶剂。去膜剂
2022-01-13 15:20:05
提高蚀刻速度。这种方法适用于小型板或原型板。浸入蚀刻通常使用添加了过硫酸镀或过氧化氢的硫酸作为蚀刻剂。 2 滋泡蚀刻 这项技术在浸入蚀刻技术上做了一些修改，它的不同在于空气中的气体进入到了蚀刻溶液中
2018-09-11 15:27:47
、污染极重）及技术经济指标均较差，已成为淘汰剂型，现在在国内外均用得较少； (2)硝酸迤退锡水，由硝酸、硝酸铁、缓蚀剂、表面活性剂、氮氧化物抑制剂、络合剂等组成，硝酸浓度一般为20%~25%,具有高速剥
2018-09-20 10:24:11
固液界面软组织表面活性剂的三维结构探讨
2019-10-28 10:28:59
湿蚀刻是光刻之后的微细加工过程，该过程中使用化学物质去除晶圆层。晶圆，也称为基板，通常是平面表面，其中添加了薄薄的材料层，以用作电子和微流体设备的基础；最常见的晶圆是由硅或玻璃制成的。湿法刻蚀
2021-01-08 10:15:01
不良状况，但助焊剂中的活化剂、表面活性剂或添加物的选择不当是造成这种状况的主要原因。.深圳市佳金源知名品牌的助焊膏，经历12年产品研发助焊膏，锡丝，焊锡线丝，无铅锡膏，有铅锡膏，焊锡条，有铅锡膏等的锡膏锡线生产商。焊锡膏就择佳金源知名品牌的助焊膏生产厂家。
2021-11-20 15:31:01
属于有机溶剂，属于可燃性溶剂，闪点比较高，毒性比较低，使用上比较安全，但是须用水进行漂洗，然后进行烘干。有些清洗剂中添加5%~20%的水和少量表面活性剂，既降低了可燃性，又可使漂洗更为轻易。半水清洗工艺
2018-09-13 15:50:54
其中国市场的开发、推广。公司自有产品包括半导体前段、后段、太阳能、平板显示FPD、LED、MEMS应用中的各种湿制程设备，例如硅片湿法清洗、蚀刻，硅芯硅棒湿法化学处理，液晶基板清洗，LED基片显影脱膜等
2015-04-02 17:23:36
实验具体技术路线（见下图）为胜利油田的含油废水先经过隔油、絮凝、澄清等前期处理，再经过超滤和微滤进一步截留残留油分，滤过液进入电渗析装置予以除盐，淡水作为发酵微生物表面活性剂鼠李糖脂
2009-08-08 09:45:57
铁粉芯磁环，你知道为什么吗？请看岑科小编给你慢慢道来： 在由混合和干燥组成的绝缘处理工艺中，为使铁粉完全绝缘，需注意两点： 1、选定最佳的界面活性剂，绝缘处理首先在铁粉中添加水溶性的绝缘处理液，用
2017-07-25 16:18:02
精细化工常用原材料手册:介绍了精细化工产品制造常用原材料919种，分为36类：酸、碱、油、脂、羊毛脂及其衍生物，蜡，溶剂，表面活性剂，合成树脂，合成橡胶及弹性体，单
2008-11-30 11:17:12
0 一、产品名称：表面活性剂固含量检测仪二、产品介绍：在表面活性剂固含量检测领域，测量准确性和测量速度之间的矛盾一直没有解决；针对这一现状提供一种有烘干法结构的快速测定固含量值的仪器。CSY-G2固含量
2022-05-17 16:49:47
用于晶圆制造过程中的封装过程，因为采用无机碱性药液，因此具有高浓度的化学物质，存在粘度高、速度慢的问题。采用表面活性剂加入清洗碱液中，从而达到低粘度化，改善 润湿性，效率提高。
2022-05-26 15:15:26
在线式表面清洁度检测仪德国析塔SITA表面清洁度仪的荧光检测技术可极大的监控及优化清洗过程。例如油、润滑脂、冷却液、脱模蜡或表面活性剂的轻微污染都会导致随后工序的表面缺陷，从而提高了成本。通过德国析
2022-06-07 14:06:34
首次采用沉淀转化法制备出球形纳米β- Ni(OH)2，认为反应转化pH值与体系中表面活性剂浓度是纳米颗粒形貌和尺寸的主要影响因素。通过粉末微电极研究了纳米材料的循环伏安特性
2009-04-26 22:33:2019 研究了溴化1，4／1，6-双 n 烷基吡啶丁烷／己烷(GPS)双子表面活性剂与普通阴离子表面活性剂十二烷基苯磺酸钠(SDBS)之闯的协同效应，考察了二者复配比例对体系表面张力和临界胶柬
2010-03-01 18:10:3621 重点介绍了国内新型两性表面活性剂的合成研究概况。咪唑啉型表面活性剂的合成主要是利用了咪唑啉中间体羟基的反应活性，通过酯化或磺化合成出了硼酸酯、硫酸酯和磺酸盐型
2010-10-03 14:09:4677 表面活性剂的组成和分类
1．表面活性剂的基本组成 任何一种表面活性剂都是由非极性的亲油(疏水)的碳氢链基和极性的亲水(疏油)基团所组成的。而且两部
2010-10-03 14:14:0950 表面活性剂常用缩略词释义，目前市场上有的表面活性剂基本上都有了，大家可以看下，因为现在很多说道表面活性剂时都是直接使用用缩略词。希望对望大家有用吧！表面活
2010-10-03 14:16:5134 农用有机硅，广泛用于杀虫剂、杀菌剂、除草剂、叶面肥、植物生长调节剂、微量元素和生物农药等农用化学品的喷雾中。农用有机硅是一种聚醚改性的特种有机硅表面活性剂。具有低的表面张力，展着性、渗透性及乳化分散性。
2017-12-21 08:53:5126916 牟颖教授团队研发的这种热凝固材料由低粘度的甲基硅油、乙烯基硅油、含氢硅油、非离子表面活性剂和铂催化剂组成。这种新型的油相能够在铂催化下通过乙烯基硅油和含氢硅油发生硅氢化反应自发凝固，不需要紫外或带点离子等外界条件触发。
2018-11-16 16:20:562571 也叫锡膏，英文名solder paste，灰色膏体。焊锡膏是伴随着SMT应运而生的一种新型焊接材料，是由焊锡粉、助焊剂以及其它的表面活性剂、触变剂等加以混合，形成的膏状混合物。主要用于SMT行业PCB表面电阻、电容、IC等电子元器件的焊接。
2019-04-22 16:29:2415452 焊锡膏也叫锡膏，灰色膏体。焊锡膏是伴随着SMT应运而生的一种新型焊接材料，是由焊锡粉、助焊剂以及其它的表面活性剂、触变剂等加以混合，形成的膏状混合物。主要用于SMT行业PCB表面电阻、电容、IC等电子元器件的焊接。
2019-06-19 15:32:0841667 水清洗技术是今后清洗技术的发展方向，须设置纯净水源和排放水处理车间。它以水作为清洗介质，并在水中添加表面活性剂、助剂、缓蚀剂、螯合剂等形成一系列以水为基的清洗剂。可以除去水溶剂和非极性污染物。
2019-09-23 14:15:267466 消洗介质在被洗物表面形成一层均匀的薄，润湿被洗物表面，使被洗物表面的污染物发生溶胀。表面润湿的条件是要求消洗介质的表面张力小于被洗物的表面张力。在清洗介质中加入些表面活性剂可以明显提高润湿能力。
2019-12-23 10:55:5912006 PCBA水清洗工艺是以水作为清洗介质，可在水中添加少量（一般为2%～10%）表面活性剂、缓蚀剂等化学物质，通过洗涤，经多次纯水或去离子水的源洗和干燥完成PCBA清洗的过程。
2019-12-26 11:35:309027 锡膏，英文名solder paste，灰色膏体。焊锡膏是伴随着SMT应运而生的一种新型焊接材料，是由焊锡粉、助焊剂以及其它的表面活性剂、触变剂等加以混合，形成的膏状混合物。主要用于SMT行业PCB表面电阻、电容、IC等电子元器件的焊接。
2020-04-24 11:45:065352 在SMT包工包料的贴片加工中锡膏是一种不可缺少的加工材料。锡膏也就是焊锡膏，是一种主要被SMT贴片使用的新型焊接材料，一般是是由焊锡粉、助焊剂以及其它的表面活性剂、触变剂等混合形成的膏状混合物。不同的SMT加工要求会用到不同的焊锡膏，那么锡膏都有哪些类型呢？下面简单分享一下锡膏的类型。
2020-06-12 10:11:223875 SMT包工包料中的水洗工艺也就是拿水来作为介质然后添加一些表面活性剂和缓蚀剂等化学物质来方便进行SMT贴片加工完成之后的电路板清洗过程。具体的清洗方案还是要按照SMT加工之后的残留物成分经行来制定专门的清洗方案。
2020-06-16 10:14:516395 二是有机氟化学品市场含氟医药、农药中间体产品及环保型含氟表面活性剂市场需求大幅增长，提升了公司业绩；同时电容器化学品也保持了稳中有升的业绩。
2020-08-20 09:44:321736 针对常規低界面张力表面活性剂驱在非均质油藏易发生窜流、调驱效果差等问题，选用具有良妤乳化増黏性能的W/O型表面活性剂调驱体系HC-2，促使油水两相在地层发生乳化，形成髙黏度W/θ型乳状液驱，有效
2021-04-15 15:22:116 书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：单晶的湿法蚀刻和红外吸收 编号：JFKJ-21-206 作者：炬丰科技 摘要 采用湿法腐蚀、x射线衍射和红外吸收等方法研究了物理气相色谱法生长AlN单晶的缺陷
2023-04-23 11:15:00118 的光学特性。样品的全反射系数低于未经处理的硅太阳能电池。硅太阳能电池的整体效率取决于所选的银离子浓度制备条件和湿法蚀刻时间。太阳能电池的纹理化表面显示出效率的提高，电路光电流高于没有纹理化的参考硅太阳能电池。给出了
2022-01-04 17:15:35633 
湿法蚀刻工艺已经广泛用于生产各种应用的微元件。这些过程简单易操作。选择合适的化学溶液(即蚀刻剂)是湿法蚀刻工艺中最重要的因素。它影响蚀刻速率和表面光洁度。铜及其合金是各种工业，特别是电子工业的重要
2022-01-20 16:02:241862 
半导体晶圆制造工艺需要用到各种特殊的液体，如显影液，清洗液，抛光液等等，这些液体中表面活性剂的浓度对工艺质量效果产生深刻的影响，析塔动态表面张力仪可以测量这些液体动态表面张力，帮助优化半导体晶圆制造工艺。
2022-01-24 16:12:492116 
本文讨论了稀氢氟酸清洗过程中颗粒沉积在硅片表面的机理。使用原子力显微镜的直接表面力测量表明，硅表面上的颗粒再沉积是由于颗粒和晶片表面之间的主要相互作用。表面活性剂的加入可以通过改变颗粒和晶片之间
2022-02-11 14:44:271443 
为了能够使用基于 GaAs 的器件作为化学传感器，它们的表面必须进行化学改性。GaAs 表面上液相中分子的可重复吸附需要受控的蚀刻程序。应用了几种分析方法，包括衰减全反射和多重内反射模式 (ATR
2022-02-17 16:41:521351 
电感耦合等离子体反应离子蚀刻获得的高蚀刻速率和高度各向异性的轮廓。光增强湿法蚀刻提供了一种获得高蚀刻速率而没有离子诱导损伤的替代途径。该方法适用于器件制造以及n-氮化镓中位错密度的估算。这有可能发展成为一种快速评估材料的方法。
2022-02-23 16:20:242208 
高效薄膜太阳能电池需要具有高吸收、低缺陷、透明导电的吸收层 氧化物(TCO)薄膜，透过率超过80%，导电率高。 此外，光可以通过玻璃捕获并送至光吸收层以提高效率。 本文研究了玻璃表面形貌的形式利用
2022-03-08 11:52:411214 
高度光滑表面光洁度的45个反射镜。在这项工作中，我们使用了一种CMOS兼容的各向异性蚀刻剂，含有四甲基氢氧化铵(TMAH)和少量(0.1% v/v)的非离子表面活性剂(NC-200)，含有100
2022-03-14 10:51:42581 
微加工过程中有很多加工步骤。蚀刻是微制造过程中的一个重要步骤。术语蚀刻指的是在制造时从晶片表面去除层。这是一个非常重要的过程，每个晶片都要经历许多蚀刻过程。用于保护晶片免受蚀刻剂影响的材料被称为掩模
2022-03-16 16:31:581136 
为了能够使用基于 GaAs 的器件作为化学传感器，它们的表面必须进行化学改性。GaAs 表面上液相中分子的可重复吸附需要受控的蚀刻程序。应用了几种分析方法，包括衰减全反射和多重内反射模式 (ATR
2022-03-31 14:57:03729 
变得必要。化学混合物包括:氢氧化钾/异丙醇、氢氟酸/硝酸、氢氟酸/盐酸。其他添加剂，例如。通常添加表面活性剂来提高蚀刻均匀性。
2022-04-14 13:56:46382 
本文提出了一种抛光硅片表面颗粒和有机污染物的清洗方法，非离子型表面活性剂可以有效地去除表面上的颗粒，因为它可以显著降低液体的表面张力和界面张力，非离子型表面活性剂分子具有亲水和疏水两部分，实验选择了脂肪醇-聚氧乙烯醚作为一种非离子型表面活性剂，这种非离子表面活性剂不能被电离，因此不会带来离子污染物。
2022-05-18 16:01:22829 
的组成和温度对腐蚀速率的影响，阴离子表面活性剂的加入提供了防止由蚀刻反应产生的淤渣粘附的功能，一种新的配备有流动发生部件的湿法蚀刻试验装置被用于测试商用无碱玻璃和钠钙玻璃的蚀刻，通过使用中试装置，将厚度
2022-05-20 16:20:243162 本文提出了基于溅射Ti/Pt/Cr和Cr/Pt/Cr金属多层膜在热王水中湿法腐蚀Pt薄膜的简单制备方案，铬(Cr)或钛(Ti)用作铂的粘附层，Cr在Pt蚀刻过程中被用作硬掩模层，因为它可以容易
2022-05-30 15:29:152171 
的逐层秘密。随着制造工艺的变化和半导体结构的变化，这些技术需要在时间和程序上不断调整。虽然有许多工具有助于这些分析，如RIE(反应离子蚀刻-一种干法蚀刻技术)、离子铣削和微切割，但钨的湿法化学蚀刻有时比RIE技术更具重现性。
2022-06-20 16:38:205220 
的粘附改善是在光刻胶涂层之前加入天然氧化物蚀刻。除了改善粘附性，这种预涂层处理还改变了（100）砷化镓的湿蚀刻轮廓，使反应限制蚀刻与未经表面处理的晶片相比更具各向同性；轮廓在[011‘]和[011]方向
2022-06-29 11:34:590 ，在一个实施例中，清洁溶液还包含一种表面活性剂，清洗溶液还包括溶解气体，含有氢氧化铵、过氧化氢、螯合剂和/或表面活性剂和/或溶解氢的相同清洗溶液也可用于多个晶片模式，用于某些应用。一种包括氧化剂和CO气体的去离子水冲洗溶液，所有
2022-06-30 17:22:112101 
本文介绍了我们华林科纳在半导体制造过程中进行的湿法蚀刻过程和使用的药液，在晶圆表面，为了形成LSI布线，现在几乎所有的半导体器件都使用干蚀刻方式，这是因为干法蚀刻与湿法蚀刻相比，各向异性较好，对于形成细微的布线是有利的。
2022-07-06 16:50:321539 
表面活性剂动态形成的有序组装结构可以形成更紧密的双电层结构，促进界面微环境中的传荷和传质；另外发现烷基链长度越长，界面电容值越高，越有利于界面微环境中的荷质传递。
2022-07-26 09:59:181092 figure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5B/8F/pYYBAGLs4UOAQWQMAAJz7EEdPlI616.png //figurefigure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5A/F3/poYBAGLs4UKAUXcXAABIXGWcmEA434.png //figurefigure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5B/8F/pYYBAGLs4UKAFFHnAAC5FJKj-_E550.png //figure
2022-08-05 17:22:21274 
在半导体湿法蚀刻中， 热磷酸广泛地用于对氮化硅的去除工艺， 实践中发现温下磷酸对氮化硅蚀刻率很难控制。 从热磷酸在氮化硅湿法蚀刻中的蚀刻原理出发， 我们华林科纳分析了影响蚀刻率的各个因素， 并通过
2022-08-30 16:41:592998 
绝大多数的聚皂都带电荷，这一点与聚电解质类似。事实上，聚皂大多数都是对聚电解质进行疏水改性的产物，一般是不溶于水的。目前已合成的聚皂有以下几种(式中R均表示长链烷基)：
2022-09-05 10:39:414537 近日，化学所与清华大学、美国加州大学合作，提出了一种界面捕获效应打印策略。该策略使用低沸点水性超分散二维材料油墨，直写打印二维半导体薄膜阵列，无需添加额外表面活性剂。
2022-11-11 09:40:24419 纺织印染业是我国重要的经济产业，在其退浆、煮练、漂白、丝光、染色、印花以及整理等过程中会用到大量的油、酸、碱、纤维杂质、无机盐、表面活性剂、浆料、染料和化学助剂等，导致所产生的废水不但量大，且水质变化大、有机物浓度高、色度高、pH高以及可生化性差，属于难降解的工业废水之一。
2022-11-22 13:46:41386 双子季铵盐表面活性剂杀菌消毒机理:① 双子季铵盐表面活性剂分子结构中具有两条疏水链，这有利于其疏水基深入菌体细胞的类脂层，亲水基深入蛋白层，导致酶失去活性和蛋白质变性;② 分子结构中含有两个
2022-12-01 09:26:251758 因此，研究人员研究了几种分散在单壁碳纳米管中的阳离子表面活性剂，并评估了它们在空气稳定性方面的热电性能。然后制备了全碳热电发电机，其由p型单壁碳纳米管膜和具有阳离子表面活性剂（n型）的单壁碳纳米管膜组成，并测量了热电发电机的性能。
2022-12-21 10:12:59349 因为高分子表面活性剂的亲水链段和疏水链段在表面或界面间具有一定的取向性，所以具有降低表面张力和界面张力的能力，但往往比低分子表面活性差一些。
2022-12-22 14:02:34826 蚀刻不是像沉积或键合那样的“加”过程，而是“减”过程。另外，根据刮削方式的不同，分为两大类，分别称为“湿法蚀刻”和“干法蚀刻”。简单来说，前者是熔法，后者是挖法。
2023-01-29 09:39:003850 如果增加表面活性剂的亲水性，则往往提高其在水中溶解度，从而减少颗粒表面的吸附。若表面活性剂与颗粒间作用力很弱时，这种影响更大。如制备染料水分散体系时，强疏水性染料用高磺化的木质素磺酸盐分散剂，能形成热稳定性好的分散体系;
2023-02-24 10:35:45556 亚急性和慢性毒性试验一般耗时较长，由于采用实验动物和其它实验条件的差异，各种数据很难比较。但一般认为非离子型表面活性剂的亚急性和慢性毒性实验结果均为无毒类，长期服用不会造成病态反应，只是有些品种会增加人体对脂肪、维生素或其它物质的吸收，或在大剂量口服时引起某些脏器可逆性功能改变
2023-03-31 11:16:49960 干法蚀刻与湿法蚀刻之间的争论是微电子制造商在项目开始时必须解决的首要问题之一。必须考虑许多因素来决定应在晶圆上使用哪种类型的蚀刻剂来制作电子芯片，是液体（湿法蚀刻）还是气体（干法蚀刻）
2023-04-12 14:54:331005 焊锡膏是伴随着SMT应运而生的一种新型焊接材料，是由焊锡粉、助焊剂以及其它的表面活性剂、触变剂等加以混合，形成的膏状混合物。主要用于SMT行业PCB表面电阻、电容、IC等电子元器件的焊接，主要特点是导电焊接的作用。
2023-04-21 11:19:34571 蚀刻是微结构制造中采用的主要工艺之一。它分为两类：湿法蚀刻和干法蚀刻，湿法蚀刻进一步细分为两部分，即各向异性和各向同性蚀刻。硅湿法各向异性蚀刻广泛用于制造微机电系统(MEMS)的硅体微加工和太阳能电池应用的表面纹理化。
2023-05-18 09:13:12701 
锡膏光叫法就有多种，有叫锡膏，焊锡膏，焊膏等等，英文名solder paste。焊锡膏是伴随着SMT应运而生的一种新型焊接材料，是由焊锡粉、助焊剂以及其它的表面活性剂、触变剂等加以混合，形成的膏状混合物。主要用于SMT行业PCB表面电阻、电容、IC等电子元器件的焊接。
2023-05-24 09:52:59897 
填料的低温烧结、添加还原剂或低温液体填料、添加偶联剂，使用具有低储能模量和导电填料还原含量的树脂基质。此外，还报道了使用偶联剂、表面活性剂和表面涂层的功能化银片。固化剂的活性官能团（-CN、-N和-OH）附着在Ag薄片上，并可能
2023-06-12 09:30:07465 
等离子表面处理设备无论是晶圆源离子注入还是晶圆电镀，都被选为IC芯片制造层面不可替代的重要技术。还可以实现低温等离子表面处理装置。去除晶片表面的氧化膜，对晶片进行有机（有机）物质、去掩膜、表面活性剂（化学）等超细化处理。
2022-08-17 09:58:50377 
表面活性剂的复配可以产生加和效应，已经应用到了实际的生产中，但其基础理论方面的研究仍只是近几年的事，其结果可以为预测表面活性剂的加和增效行为提供指导，以便得到最佳复配效果。但其研究仍处于初级阶段，主要集中在双组分复配体系。
2023-07-04 14:38:10583 徐坚从表面活性的分子机理出发，分析了聚合物的化学结构、溶液分子形态与表面活性的关系，提出高分子表面活性剂形成完整的单分子和多分子胶束是导致其表面活性变差的最主要原因，遏制聚合物的疏水组分的缔合，将有效地提高其表面活性。
2023-08-08 15:24:38833 在SMT包工包料的贴片加工中锡膏是一种不可缺少的加工材料。锡膏，即焊锡膏，是一种新型焊接材料，主要用于SMT贴片。一般是由焊粉、助焊剂等表面活性剂和触变剂混合而成的糊状混合物。不同的SMT加工要求
2023-09-01 14:16:56810 
烷基氧化胺易溶于水和极性有机溶剂，是一种弱阳离子型两性表面活性剂，水溶液在酸性条件下呈阳离子性，在碱性条件下呈非离子性。具有良好的增稠、抗静电、柔软、增泡、稳泡和去污性能;还具有杀菌、钙皂分散能力，且生物降解性好，属环保型日化产品。
2023-09-18 12:27:541616 
纤维与塑料及其他制品往往因摩擦产生静电而影响厂其制品的应用性能。如纤维织物若带静电，常会出现“贴身”或“静粘”，以及易于吸尘或变脏等缺点。塑料制品若带静电产生的影响就更大了，不仅制品易吸附尘埃。影响其制品的透明性及表面洁净和美观，而且还降低了制品的使用性能和价值。
2023-09-22 12:44:46342 水清洗技术是今后清洗技术的发展方向，须设置纯清水源和排放水处理车间。它以水作为清洗介质，并在水中添加表面活性剂、助剂、缓蚀剂、螯合剂等形成一系列以水为基的清洗剂。可以除去水溶剂和非极性污染物。
2023-11-02 15:01:44186 近年来，铜(Cu)作为互连材料越来越受欢迎，因为它具有低电阻率、不会形成小丘以及对电迁移(EM)故障的高抵抗力。传统上，化学机械抛光(CMP)方法用于制备铜细线。除了复杂的工艺步骤之外，该方法的一个显著缺点是需要许多对环境不友好的化学品，例如表面活性剂和强氧化剂。
2023-11-08 09:46:21188 
发展,纳米材料具有特殊的微观形貌及结构、嵌锂容量及能量密度高和循环寿命长等特点。然而纳米颗粒团聚和大小的控制, 电极材料与电解液接触面积小,电解液的缓蚀效果等问题的解决都需用到表面活性剂。
2024-01-10 09:40:31232 
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