对于如今的半导体产业而言，EUV光刻机是打造下一代逻辑和DRAM工艺技术的关键所在，为了在未来的工艺军备竞赛中保持优势，台积电、三星和英特尔等厂商纷纷花重金购置EUV光刻机。 然而，当这些来自
2022-07-22 07:49:00
2403 极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 
根据最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。更加利好的消息是，业内预估ASML今年（2021年）的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
2021-01-03 00:28:004735 ，我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力，还有蔡司和TRUMPF（通快）两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分别为EUV光刻机的镜头和光源做出了不小的贡献，也让欧洲成了唯一
2021-12-01 10:07:4110988 投入使用高NA EUV光刻机已经势在必行了。据了解，一台高NA EUV的光刻机成本就可能达到3.2亿美元，这样一个天价的光刻系统究竟能带来哪些优势，又存在哪些挑战呢？ 规模和密度的平衡，我们为什么需要高 NA 光刻机？ 从今年发布的不少新品来看，即便工艺没有太大的变化，芯
2022-12-07 01:48:002199 ，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波长为10～14纳米的极紫外光作为
2017-11-14 16:24:44
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
。 为什么需要EUV光刻？ EUV的优势之一是减少了芯片处理步骤，而使用EUV代替传统的多重曝光技术将大大减少沉积、蚀刻和测量的步骤。目前EUV技术主要运用在逻辑工艺制程中，这导致了2019年订单
2020-07-07 14:22:55
就向它发出了强有力的挑战……DisplayPort的技术优势2006年5月，VESA（视频电子标准组织）正式发布了DisplayPort 1.0标准，这是一种针对所有显示设备（包括内部和外部接口
2019-04-10 07:00:02
FPGA的技术优势主要体现在那些方面？
2021-05-26 06:10:18
LTE的主要技术特征是什么？LTE的技术优势是什么？
2021-05-26 06:13:34
MP6517有哪些核心技术优势？MP6517有哪些应用实例？
2021-06-15 09:03:32
MPQ4488GU-AEC1是什么？MPQ4488GU-AEC1有哪些核心技术优势？MPQ4488GU-AEC1的方案规格是什么？
2021-07-04 07:18:36
` 本帖最后由 zhihuizhou 于 2011-10-28 14:24 编辑
NFC 技术优势及应用模式 NFC与RFID技术兼容。RFID的传输范围可以达到几米甚至几十米，主要被应用在
2011-10-27 16:32:02
NoC是什么？NoC有哪些技术优势？NoC有哪些关键技术难点？
2021-06-04 06:34:33
什么是OLED？OLED技术优势与劣势是什么？
2021-06-02 06:37:04
什么是POE供电？POE供电的技术优势和拓展应用POE以太网供电的关键技术
2020-12-24 07:00:59
QCC3020是什么？其重要功能是什么？QCC3020有哪些核心技术优势？
2021-07-12 06:12:15
UWB技术的家庭应用有哪些？UWB的技术优势是什么？
2021-05-28 06:37:32
目前接口分析：1.TTL:局限性太大，一般在小屏上面应用较多（7寸以下）2.7寸以上的屏现在的接口有LVDS,eDP,iDP,V-BY-ONE。附件讲述一下由THine公司发布的V-BY-ONE接口的技术优势。需要详细资料的请电话联系。
2013-03-14 18:24:27
uWB定位技术优势是什么？具有哪些参数功能？
2022-02-11 07:46:22
固定无线接入的技术优势有哪些？固定无线接入技术特点是什么？固定无线接入的主要技术有哪些？固定无线接入在城域网建设中的策略是什么？
2021-05-27 06:01:14
基于FD-SOI的FPGA芯片有哪些技术优势？基于FD-SOI的FPGA芯片有哪些主要应用？
2021-06-26 07:14:03
宽带隙器件的技术优势实际应用中的宽带隙功率转换
2021-02-22 08:14:57
小编科普一下RV1126与RV1109具备哪些技术优势呢？
2022-02-21 06:25:17
快照】：极紫外(EUV)光刻技术一直被认为是光学光刻技术之后最有前途的光刻技术之一,国际上对EUV光刻技术已开展了广泛的研究[1-4]。在EUV光刻技术中,EUV光源是其面临的首要技术难题。实现EUV
2010-04-22 11:41:29
概览无线通信为测量应用提供了许多技术优势，其中包括更低的布线成本和远程监测功能。然而，如果不了解每项无线标准的技术优势和不足，选择一项技术及其实现方法都会非常困难。该文档讨论了市场上可用的各项无线
2019-07-22 06:02:25
基于NXP S32K144和TI TPS***-Q1的汽车防眩目自适应远光灯系统（ADB）解决方案有哪些核心技术优势？
2021-07-09 07:39:54
PXI Express的技术优势是什么？
2021-05-13 06:25:22
请问一下S32V234的核心技术优势有哪些？
2021-07-12 07:32:25
激光对射入侵探测器技术优势都有哪些？
2019-01-28 15:45:22
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36:46
汉王手写识别中的技术优势.pdf
Hanwang技术优势一、倾斜字识别1、倾斜字识别解决了在正负90 度之间，也就是水平方向180 度范围之内任意倾斜角度的汉
2010-03-13 14:58:58
22 MiniGUI的技术优势
和其它针对嵌入式产品的图形系统相比，MiniGUI 在对系统的需求上具有如下几大优势：
1) 可伸缩
2009-03-28 11:59:52824 钒电池的技术优势有哪些？
设计方案符合环保要求的快速设计与方案实施；
现有系统实现快速升级——额外的储能容量/输
2009-11-02 15:02:57716 bonding技术优势和技术的应用
bonding技术优势
1、bonding芯片防腐、抗震，性能稳定。这种封装方式
2009-11-17 09:26:491797 开关磁阻电机技术优势
2017-01-21 12:12:161 随机变化需要新方法、新工具，以及不同公司之间的合作。 极紫外（EUV）光刻技术正在接近生产，但是随机性变化又称为随机效应正在重新浮出水面，并为这项期待已久的技术带来了更多的挑战
2018-03-31 11:52:005861 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战，目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403376 据台媒2月12日报道，为延续7纳米制程领先优势，台积电支持极紫外光(EUV)微影技术的7nm加强版制程将按既定时间于3月底正式量产，而全程采用EUV技术的5nm制程也将在今年第2季进入风险试产。
2019-02-16 11:11:154482 本视频介绍了ptn技术优势。多业务承载：无线回传的TDM/ATM以及以太网业务、企事业单位和家庭用户的以太网业务。
2019-02-28 13:48:456322 随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限，极紫外 （EUV） 光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中。对于 7 纳米及更小的高级节点，EUV 光刻技术是一种能够简化图案形成工艺的支持技术。要在如此精细的尺寸下进行可靠制模，超净的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:371712 
掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML（阿斯麦）公司今天发布了2019年Q2季度财报，当季营收25.68亿欧元，其中净设备销售额18.51亿欧元，总计出货了41台光刻机，其中EUV光刻机7台。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技术官Gary Patton表示，如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机，那么光刻的步骤将会超过100步，这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具，未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:1812845 
近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 10:58:473149 2月28日，美国泛林公司宣布与ASML阿斯麦、IMEC比利时微电子中心合作开发了新的EUV光刻技术，不仅提高了EUV光刻的良率、分辨率及产能，还将光刻胶的用量最多降至原来的1/10，大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:194670 在高通近日举行的“5G的未来”媒体分享会上，高通中国区研发负责人徐在演讲中多次强调毫米波的技术优势。
2020-04-02 09:24:283272 与此同时， 他指出，EUV继续为ASML的客户提高产量，迄今为止，他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆，并交付了57个3400x EUV系统（3400平台是EUV生产平台）。
2020-08-14 11:20:552048 
ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499647 
台积电是第一家将EUV（极紫外）光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 EUV光刻（即极紫外光刻）利用波长非常短的光，在硅片上形成数十亿个微小结构，构成一个芯片。与老式光刻机相比，EUV设备可以生产更小、更快、更强大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 Luc Van den hove表示，IMEC的目标是将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场，目前ASML把握着全球主要的先进光刻机产能，近年来，IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机，目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 呢？OFweek君根据公开资料整理出了一些原因，供读者参考。 与DUV（深紫外光）光刻机相比，EUV光刻机的吞吐量相对较低，每小时可曝光处理的晶圆数量约在120片－175片之间，技术改进后，速度可以提升至275片每小时。但相对而言，EUV生产效率还是更高，
2021-02-14 14:05:003915 目前，还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机，三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约，中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
2021-01-21 08:56:184078 ASML公司前两天发布了财报，全年净销售额140亿欧元，EUV光刻机出货31台，带来了45亿欧元的营收，单价差不多11.4亿欧元了。 虽然业绩增长很亮眼，但是ASML也有隐忧，实际上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639 随着半导体工艺进入10nm节点以下，EUV光刻机成为制高点，之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机，率先量产7nm、5nm工艺，现在内存厂商也要入场了，SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 09:28:551644 7nm之下不可或缺的制造设备，我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力，还有蔡司和TRUMPF（通快）两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分别为EUV光刻机的镜头和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742 EUV光刻技术为半导体制造商提供一个前所未有的速度开发最强大芯片的机会。
2022-04-07 14:49:33488 台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了，并且在随后的工艺迭代中，逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
2022-05-13 14:43:202077 
HVM中的EUV光刻
•背景和历史
•使用NXE的EUV光刻：3400B
•EUV生成原理
•EUV来源：架构
•现场EUV源
•电源展望
•总结
2022-06-13 14:45:450 中国芯的进步那是有目共睹，我国在光刻机，特别是在EUV光刻机方面，更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516742 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077000 EUV光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523 机是哪个国家的呢？ euv光刻机许多国家都有，理论上来说，芯片强国的光刻机也应该很强，但是最强的光刻机制造强国，不是美国、韩国等芯片强国，而是荷兰。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:276977 机可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备，其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢？下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制
2022-07-10 16:34:403116 与此同时，在ASML看来，下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战，更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了，DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶（CAR）也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:082010 EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术，简单来说，就是以极紫外光作“刀”，对芯片上的晶圆进行雕刻，让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:024367 光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词，也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么，让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:053180 投入使用高NA EUV光刻机已经势在必行了。 据了解，一台高NA EUV的光刻机成本就可能达到3.2亿美元，这样一个天价的光刻系统究竟能带来哪些优势，又存在哪些挑战呢？ 规模和密度的平衡，我们为什么需要高NA光刻机？ 从今年发布的不少新品来看，即便工艺没有太大的变化，芯片
2022-12-07 07:25:02952 过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米的光刻技术方面付出了一些努力，但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术。
2023-02-02 11:49:592234 挑战性。制造商正在关注称为极紫
外(EUV) 光刻的先进制造技术。
EUV光刻可用于制造比以前更小规模的芯片。该技术可以导致微处理器的发展，其速度比目前最强大的芯片快十倍。EUV光刻
的本质也可以归因于当前芯片印刷技术的物理限制。
2023-02-15 15:55:294 新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发，必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战，imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121165 半导体技术的未来通常是通过光刻设备的镜头来看待的，尽管高度挑战性的技术问题几乎永无休止，但光刻设备仍继续为未来的工艺节点提供更好的分辨率。
2023-07-28 17:41:161130 
EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02399 EUV光刻胶材料是光敏物质，当受到EUV光子照射时会发生化学变化。这些材料在解决半导体制造中的各种挑战方面发挥着关键作用，包括提高灵敏度、控制分辨率、减少线边缘粗糙度（LER）、降低释气和提高热稳定性。
2023-09-11 11:58:42349 
近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。
2023-09-14 09:45:12563 
EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。
2023-10-30 12:22:55615 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
2023-11-23 18:13:02579 
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