对于如今的半导体产业而言，EUV光刻机是打造下一代逻辑和DRAM工艺技术的关键所在，为了在未来的工艺军备竞赛中保持优势，台积电、三星和英特尔等厂商纷纷花重金购置EUV光刻机。 然而，当这些来自
2022-07-22 07:49:00
2525 除了阻抗，还有其他问题，即EUV光掩模基础设施。光掩模是给定IC设计的主模板。面膜开发之后，它被运到制造厂。将掩模放置在光刻工具中。该工具通过掩模投射光，这又掩模在晶片上的图像。
2017-09-29 09:09:1712281 本Inseto知识库文档介绍了光刻中使用的掩模对准器曝光模式。
2022-07-21 16:57:311746 
极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54755 
掩模版（Photomask）又称光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工艺中关键部件之一，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具
2023-12-25 11:41:1311059 
根据最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。更加利好的消息是，业内预估ASML今年（2021年）的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
2021-01-03 00:28:004781 ，我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力，还有蔡司和TRUMPF（通快）两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分别为EUV光刻机的镜头和光源做出了不小的贡献，也让欧洲成了唯一
2021-12-01 10:07:4111112 投入使用高NA EUV光刻机已经势在必行了。据了解，一台高NA EUV的光刻机成本就可能达到3.2亿美元，这样一个天价的光刻系统究竟能带来哪些优势，又存在哪些挑战呢？ 规模和密度的平衡，我们为什么需要高 NA 光刻机？ 从今年发布的不少新品来看，即便工艺没有太大的变化，芯
2022-12-07 01:48:002280 ，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波长为10～14纳米的极紫外光作为
2017-11-14 16:24:44
被显影液溶解，获得的图形与掩模版图形互补。负性抗蚀剂的附着力强、灵敏度高、显影条件要求不严，适于低集成度的器件的生产。 半导体器件和集成电路对光刻曝光技术提出了越来越高的要求，在单位面积上要求完善传递
2012-01-12 10:51:59
）光刻技术，而GlobalFoundries当年也曾经研究过7nm EUV工艺，只不过现在已经放弃了。 而使用极紫外光（EUV）作为光源的光刻机就是EUV光刻机，当然这绝对不是单纯只换个光源这么简单
2020-07-07 14:22:55
在本示例中，模拟了衰减相移掩模。该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。掩模的单元格如下图所示：掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 由于这个例子是所谓的一维
2021-10-22 09:20:17
运营商建设LTE网络的基本策略之一为LTE网络、2G和3G网络将长期共存，共同发展，多模、多制式、多频的融合。LTE网络测试领域也在业界的持续努力与实验网的验证下取得了很大的进步。但在多网协同的发展方向上，仍面临诸多挑战，需要进一步积极应对。
2019-06-10 07:48:45
RFID原理是什么？RFID技术面临哪些挑战？
2021-05-26 06:06:21
SoC测试技术传统的测试方法和流程面临的挑战是什么？SoC测试技术一体化测试流程是怎样的？基于光子探测的SoC测试技术是什么？有什么目的？
2021-04-15 06:16:53
何谓Full HD？Full HD面临哪些技术挑战？
2021-06-07 07:14:47
基于能量采集技术的BLE传感器节点设计面临哪些挑战？如何去应对这些挑战？
2021-05-17 06:03:02
多声道音频技术是什么？PC音频子系统面临哪些设计挑战？
2021-06-04 07:02:37
随着设计复杂性增加，传统的综合方法面临越来越大的挑战。为此，Synplicity公司开发了同时适用于FPGA或 ASIC设计的多点综合技术，它集成了“自上而下”与“自下而上”综合方法的优势，能提供高结果质量和高生产率，同时削减存储器需求和运行时间。
2019-10-17 06:29:53
将音频编解码器整合进新一代SoC面临哪些技术挑战？如何去实现呢？
2021-06-03 06:41:10
快照】：极紫外(EUV)光刻技术一直被认为是光学光刻技术之后最有前途的光刻技术之一,国际上对EUV光刻技术已开展了广泛的研究[1-4]。在EUV光刻技术中,EUV光源是其面临的首要技术难题。实现EUV
2010-04-22 11:41:29
无线智能IP监控面临的技术挑战是什么？怎么解决？
2021-05-31 06:27:15
HID设计面临哪些挑战？有什么方法可以解决HID设计面临的挑战？
2021-05-17 06:06:54
模拟技术的无可替代的优势是什么？模拟电路技术在数字时代面临的挑战有哪些？未来，模拟技术的发展趋势是什么？与过去相比，目前模拟技术最突出应用领域有哪些？TI在模拟电路领域的发展方向和发展思路是什么？
2021-04-21 07:11:20
请问毫微安电流测量技术面临的挑战有哪些？
2021-04-09 06:27:49
汽车无线安全应用面临哪些设计挑战？
2021-05-19 06:41:47
电力系统设计工程师们正面临着较之以往更大的挑战。更加复杂的传感算法、最新的能源效率挑战和新一代高级传感器的应用，都意味着电力设计师们需要学习比以往更加广泛的技能，同时不断吸收新的设计思想和解决方案，只有这样才能让企业在电力市场上占有一席之地。
2019-08-20 07:33:45
随着数字移动电视不断向移动设备的应用转移，应用和系统工程师正面临着各种挑战，比如外形尺寸的小型化、更低的功耗以及信号完整性。对现有移动电视标准的研究重点将放在了DVB-H上。本文将从系统角度讨论DVB-H接收器设计所面临的机遇和挑战，并重点介绍射频前端。
2019-06-03 06:28:52
高速通信面临的挑战是什么？
2021-05-24 06:34:15
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36:46
随机变化需要新方法、新工具，以及不同公司之间的合作。 极紫外（EUV）光刻技术正在接近生产，但是随机性变化又称为随机效应正在重新浮出水面，并为这项期待已久的技术带来了更多的挑战
2018-03-31 11:52:005884 光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得
2018-06-27 15:43:5011845 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战，目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403417 光刻技术是包含光刻机、掩模、光刻材料等一系列技术，涉及光、机、电、物理、化学、材料等多个研究方向。目前科学家正在探索更短波长的F2激光（波长为157纳米）光刻技术。由于大量的光吸收，获得用于光刻系统
2019-01-02 16:32:2324360 格芯首席技术官Gary Patton表示，如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机，那么光刻的步骤将会超过100步，这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具，未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:1812962 
随着人工智能技术的发展，除了对处理器提出了不同的需求之外，在三星电子内存产品规划高级股总裁Jinman Han看来，存储器也面临着与此前不同的挑战。
2019-09-03 16:23:56499 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 10:58:473181 2月28日，美国泛林公司宣布与ASML阿斯麦、IMEC比利时微电子中心合作开发了新的EUV光刻技术，不仅提高了EUV光刻的良率、分辨率及产能，还将光刻胶的用量最多降至原来的1/10，大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583268 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 11:42:4529379 在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:194703 与此同时， 他指出，EUV继续为ASML的客户提高产量，迄今为止，他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆，并交付了57个3400x EUV系统（3400平台是EUV生产平台）。
2020-08-14 11:20:552087 
ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499716 
。 EUV 光刻技术是多种先进技术的复合体，例如多层反射镜，多层掩模，防护膜，光源和注册表（registries）。 在过去的十年中，包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发，以确保技术处于领先地位。最近，代工公司（意指三星）开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术来生产智
2020-11-16 14:19:471858 体上，三分之二的调查参与者认为这将产生积极的影响。前往EUV时，口罩的数量减少了。这是因为EUV将整个行业带回单一模式。具有多个图案的193nm浸入需要在高级节点处使用更多的掩模。
2020-11-23 14:42:091112 Luc Van den hove表示，IMEC的目标是将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场，目前ASML把握着全球主要的先进光刻机产能，近年来，IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机，目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481697 呢？OFweek君根据公开资料整理出了一些原因，供读者参考。 与DUV（深紫外光）光刻机相比，EUV光刻机的吞吐量相对较低，每小时可曝光处理的晶圆数量约在120片－175片之间，技术改进后，速度可以提升至275片每小时。但相对而言，EUV生产效率还是更高，
2021-02-14 14:05:003982 目前，还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机，三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约，中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
2021-01-21 08:56:184143 ASML公司前两天发布了财报，全年净销售额140亿欧元，EUV光刻机出货31台，带来了45亿欧元的营收，单价差不多11.4亿欧元了。 虽然业绩增长很亮眼，但是ASML也有隐忧，实际上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242689 7nm之下不可或缺的制造设备，我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力，还有蔡司和TRUMPF（通快）两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分别为EUV光刻机的镜头和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010802 极紫外光刻(EUVL)掩模寿命是要解决的关键挑战之一，因为该技术正在为大批量制造做准备。反射式多层掩模体系结构对紫外线辐射高度敏感，容易受到表面氧化和污染。由于各种表面沉积过程造成的EUV标线的污染
2021-12-17 15:22:42899 
艺必须发挥关键作用，以去除这些微小的颗粒缺陷。然而，由于缺乏薄膜保护，EUV掩模清洗面临着与反射掩模结构、诸如钌(Ru)覆盖层的新材料以及更频繁的清洗相关的独特挑战。因此，它必须足够温和，不会损坏EUV掩模上的脆弱图案和表面，特别是非常薄的钌覆盖层。竞争的需求使得EUV口罩清洁更具挑战性。
2022-02-17 14:59:271415 
EUV光刻技术为半导体制造商提供一个前所未有的速度开发最强大芯片的机会。
2022-04-07 14:49:33513 台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了，并且在随后的工艺迭代中，逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
2022-05-13 14:43:202124 
HVM中的EUV光刻
•背景和历史
•使用NXE的EUV光刻：3400B
•EUV生成原理
•EUV来源：架构
•现场EUV源
•电源展望
•总结
2022-06-13 14:45:45
0 中国芯的进步那是有目共睹，我国在光刻机，特别是在EUV光刻机方面，更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516894 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077085 EUV光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444593 ASML的极紫外光刻机（EUV），这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候，光刻机是用一系列光源能量和形状控制手段，通过带有电路图的掩模传输光束。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制等多项先
2022-07-10 11:17:4243364 机是哪个国家的呢？ euv光刻机许多国家都有，理论上来说，芯片强国的光刻机也应该很强，但是最强的光刻机制造强国，不是美国、韩国等芯片强国，而是荷兰。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:277107 机可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下，能
2022-07-10 14:35:066278 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1079031 光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流光刻技术，具有效率高、无损伤等优点。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工
2022-07-10 15:28:1015332 光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备，其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢？下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制
2022-07-10 16:34:403206 与此同时，在ASML看来，下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战，更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了，DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶（CAR）也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:082162 从 2D 扩展到异构集成和 3D 封装对于提高半导体器件性能变得越来越重要。近年来，先进封装技术的复杂性和可变性都在增加，以支持更广泛的设备和应用。在本文中，我们研究了传统光刻方法在先进封装中的局限性，并评估了一种用于后端光刻的新型无掩模曝光。
2022-07-26 10:42:121159 EUV 光刻技术被视为先进半导体制造的最大瓶颈，但这些价值超过 1.5 亿美元的工具是没有光掩模的paperweights。一个恰当的比喻是，光掩模可以被认为是光刻工具对芯片层进行图案化所需的物理模板。
2022-08-26 10:49:47971 EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术，简单来说，就是以极紫外光作“刀”，对芯片上的晶圆进行雕刻，让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:024477 光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词，也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么，让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:053375 投入使用高NA EUV光刻机已经势在必行了。 据了解，一台高NA EUV的光刻机成本就可能达到3.2亿美元，这样一个天价的光刻系统究竟能带来哪些优势，又存在哪些挑战呢？ 规模和密度的平衡，我们为什么需要高NA光刻机？ 从今年发布的不少新品来看，即便工艺没有太大的变化，芯片
2022-12-07 07:25:021013 过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米的光刻技术方面付出了一些努力，但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术。
2023-02-02 11:49:592437 挑战性。制造商正在关注称为极紫
外(EUV) 光刻的先进制造技术。
EUV光刻可用于制造比以前更小规模的芯片。该技术可以导致微处理器的发展，其速度比目前最强大的芯片快十倍。EUV光刻
的本质也可以归因于当前芯片印刷技术的物理限制。
2023-02-15 15:55:294 光掩模可以被认为是芯片的模板。光掩模用电子束图案化并放置在光刻工具内。然后，光掩模可以吸收或散射光子，或允许它们穿过晶圆。这就是在晶圆上创建图案的原因。
2023-03-03 10:10:321276 其全流程涉及了从 EUV 光源到反射镜系统，再到光掩模，再到对准系统，再到晶圆载物台，再到光刻胶化学成分，再到镀膜机和显影剂，再到计量学，再到单个晶圆。
2023-03-07 10:41:581197 但imec先进成像、工艺和材料高级副总裁斯蒂芬·希尔（Steven Scheer）在接受采访时非常理性地指出，要经济高效地引入High NA EUV光刻机，还需翻越“四堵墙”，包括改进EUV光刻胶的厚度、底层材料的属性、3D掩膜效应对成像的影响，以及与新型逻辑晶体管、存储芯片组件进行协同设计。
2023-03-17 09:27:091271 光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。 很多人都对光刻机有所耳闻，但其实不同光刻机的用途并不
2023-04-06 08:56:49718 
新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发，必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战，imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121266 晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模，然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是，如果光刻胶太薄，它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小，底层厚度也应该减小。
2023-04-27 16:25:00753 
EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟，预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041940 
需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比，EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的超高级别，从而实现更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:374107 光刻机需要采用全反射光学元件，掩模需要采用反射式结构。
这些需求带来的是EUV光刻和掩模制造领域的颠覆性技术。EUV光刻掩模的制造面临着许多挑战，包括掩模基底的低热膨胀材料的开发、零缺陷衬底抛光、多层膜缺陷检查、多层膜缺陷修复等。
2023-06-07 10:45:541197 
半导体技术的未来通常是通过光刻设备的镜头来看待的，尽管高度挑战性的技术问题几乎永无休止，但光刻设备仍继续为未来的工艺节点提供更好的分辨率。
2023-07-28 17:41:161171 
EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02446 短波长透明光学元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波长，而晶片上所需的最小特征继续向更深的亚波长尺度收缩。这对用入射场代替掩模开口上的场的基尔霍夫边界条件造成了严重的限制，因为这种近似无法考虑光刻图像
2023-08-25 17:21:43319 
EUV光刻胶材料是光敏物质，当受到EUV光子照射时会发生化学变化。这些材料在解决半导体制造中的各种挑战方面发挥着关键作用，包括提高灵敏度、控制分辨率、减少线边缘粗糙度（LER）、降低释气和提高热稳定性。
2023-09-11 11:58:42406 
近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。
2023-09-14 09:45:12635 
光刻技术，与去年调查中报告的比例相同。此外，与去年的调查相比，对前沿掩模商能够处理曲线掩模需求的信心增加了
2023-10-17 15:00:01249 EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。
2023-10-30 12:22:55926 掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一类不可或缺的晶圆制造材料，在芯片封装（构筑芯片的外壳和与外部的连接)、平板显示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷电路板、微机电器件等用到光刻技术的领域也都能见到各种掩模的身影。
2024-01-18 10:25:22244 
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网报道（文/李宁远）提及芯片制造技术，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业，光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下，摩尔定律
2023-07-16 01:50:153120 
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