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书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：半导体行业的湿化学分析——总览 编号：JFSJ-21-075 作者：炬丰科技 网址：http://www.wetsemi.com/index.html 对液体和溶液进行分析以获得有关半导体材料、工艺和集成电路生产环境的信息在半导体工业中被称为湿化学。尽管湿法自 50 年代后期以来已在该行业中使用，但对这些技术仍然知之甚少。 然而，在行业努力保持良好的质量控制、提高产量和帮助了解污染源的过程中，使用了超过 120 个程序来获取特定信息。这些程序涵盖超纯水、化学品、薄膜和晶片清洁度。此外，它们还用于评估反应器、洁净室和用于洁净室、湿工作台和反应器的各种组件的清洁度。 本文将全面介绍湿化学工艺的应用以及从这些分析技术中获得的数据的有用性。这篇论文不仅将涵盖人们期望通过湿法进行的那些测试，例如化学品中的金属分析，还将涵盖湿化学分析的许多不寻常应用，例如它们在评估来自各种反应器的产品中的有用性。 人们更容易接受湿分析程序可用于测量制造的湿侧使用的材料，例如超纯水、化学品和湿工作台。然而，正如我们将要展示的，湿法在分析处理过的晶片、薄膜、反应器、洁净室和各种组件时也非常有用。 使用湿化学方法进行测量有许多优点 当需要低水平特定的反应时，例如过程评估和过程控制：文章全部详情，请加V获取：hlknch / xzl1019 l 湿化学测量是主要的，很容易追溯到标准（即 NIST），因此是绝对定量的。 l 人们可以精确地复制一个矩阵，从而确定矩阵何时以及如何引起干扰，从而确定 fMse 数据。 l 可以轻松进行回收率研究以验证该方法。 l 由于这些程序给出了准确的结果，因此可以比较一段时间内的数据并查看处理过程中的基线变化或变化。 l 湿化学分析对以下物质异常敏感 如有侵权，请联系作者删除 
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