台积电已安装全球超过一半的EUV光刻机，7nm工艺愈发醇熟
工艺制程走入10nm以下后，台积电的优势开始显现出来。在7nm节点，台积电优先确保产能，以DUV（深紫外光刻）打头阵，结果进度领先三星的7nm EUV，吃掉大量订单，奠定了巨大优势。
前不久，台积电宣布，截止7月，台积电已经生产了超10亿颗功能完好、没有缺陷的7nm芯片，完成新里程碑。
据业内最新消息，台积电的7nm工艺愈发醇熟，已经提前完成每月生产13万片晶圆的目标，年底前将把产能拉至14万片/月。
按照台积电之前的说法，7nm于2018年4月正式投入量产，目前已经服务了全球超过数十家客户，打造了超100款芯片产品。他们认为，当你做得足够多，才能发现和解决更多的问题，从而对产能、良率形成正向引导，结果就是更加一往无前。
如今，台积电安装了全球超过一半的EUV光刻机，新的7nm工艺以及正在量产的5nm等，前途光明。
责编AJX
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表德赢Vwin官网 网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
- 芯片
+关注
关注
450文章
49379浏览量
415887 - 台积电
+关注
关注
43文章
5509浏览量
165583 - 光刻机
+关注
关注
31文章
1136浏览量
46789
发布评论请先登录
相关推荐
台积电产能分化：6/7nm降价应对低利用率，3/5nm涨价因供不应求
摩根士丹利的报告，以及最新的市场观察，
台
积
电在6/
7nm与3/5
nm两大制程节点上的产能利用情况及价格策略呈现出截然不同的态势。
俄罗斯首台光刻机问世
据外媒报道，目前，俄罗斯首台
光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，
已组装并制造了第
一台国产
光刻机，作为泽廖诺格
Rapidus对首代工艺中0.33NAEUV解决方案表示满意，未采用高NAEUV光刻机
在
全球四大先进制程代工巨头（包括
台
积
电、三星电子、英特尔以及Rapidus）中，只有英特尔明确表示将使用High NA
EUV
买台积电都嫌贵的光刻机，大力推玻璃基板，英特尔代工的野心和危机
德赢Vwin官网 网报道（文/吴子鹏）此前，
台
积
电高级副总裁张晓强在技术研讨会上表示，“ASML最新的高数值孔径极紫外
光刻机（high-NA
EUV
荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机
disable）
台
积
电相应机器，而且还可以包括最先进的极紫外
光刻机（
EUV）。 这就意味着阿斯麦（ASML）留了后门，随时有能力去远程瘫痪
台积电A16制程采用EUV光刻机，2026年下半年量产
据台湾业内人士透露，
台
积
电并未为A16制程配备高数值孔径（High-NA）
EUV
光刻机，而选择利用现有的
ASML发货第二台High NAEUV光刻机，已成功印刷10nm线宽图案
ASML公司近日宣布发货了第二
台High NA
EUV
光刻机，并且已成功印刷出10纳米线宽图案，这
一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了
光刻机所能实现的最小
工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和
EUV；按照工作原理依次从接触接近式
发表于03-21 11:31
•
4011次阅读
2024年全球与中国7nm智能座舱芯片行业总体规模、主要企业国内外市场占有率及排名
类型及应用 2.9
7nm智能座舱芯片行业集中度、竞争程度分析 2.9.1
7nm智能座舱芯片行业集中度分析：2023年
全球Top 5生产商市场份额 2.9.2
全球
发表于03-16 14:52
ASML 首台新款EUV光刻机Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息，
光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款
EUV
光刻机Twinscan NXE:3800E 已完成
安装，新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台
产能利用率低迷，传台积电7nm将降价10%！
早在今年10月的法说会上，
台
积
电总裁魏哲家就曾被外资当面询问
7nm产能利用率不断下滑的问题，
台
积
台积电7nm制程降幅约为5%至10%
据供应链消息透露，
台
积
电计划真正降低其
7nm制程的价格，降幅约为5%至10%。这
一举措的主要目的是缓解
7
三星希望进口更多ASMLEUV***，5年内新增50台
EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分，占据总时间、总成本的
一半以上。由于这种
光刻机极为复杂，因此ASML每年只能制造约60
台，而
全球5
工商网监
评论