佳能新发售KrF半导体光刻机的Grade10升级包-德赢Vwin官网网

佳能将于2022年8月初发售KrF※1半导体光刻机“FPA-6300ES6a”的“Grade10”产能升级配件包（以下简称“Grade10”升级包）。KrF半导体光刻机“FPA-6300ES6a” 自发售至今，已经在生产存储器和逻辑电路的大型半导体器件制造厂商中收获良好口碑，此次发布的“Grade10”升级包将助力该设备在300mm晶圆规格基础上，以每小时高达300片※2晶圆的加工能力实现半导体光刻行业内的更高水平※3。

随着市场对半导体器件需求的持续增长，半导体器件制造厂商也在不断寻求具备更高生产能力的半导体光刻设备。自2012年4月推出KrF半导体光刻机“FPA-6300ES6a”以来，佳能在提升设备生产能力的过程中不断实现产品的升级与迭代，并在市场中赢得了客户群体的广泛认可和高度信赖。

新发布的“Grade10”升级包能够在300mm晶圆规格基础上，实现每小时300片晶圆的高效率生产。此外，这一升级包将于2023年在KrF半导体光刻机“FPA-6300ES6a”的200mm兼容设备上得到应用。

实现行业更高水准的生产效率

“Grade10”升级包通过加快工作台和传送系统的驱动，缩短了曝光时间和传输时间，以每小时300片晶圆的产能，实现半导体光刻行业的更高水准生产。同时，这是佳能在半导体光刻设备上首次搭载基于人工神经网络※4的工作台控制系统，减少高速驱动产生的振动，以保持高精度光刻水准。此外，通过选取套刻精度（Overlay）配件，在提升产能的同时，更可实现高达4nm※5的套刻精度。

支持现有设备的升级

对于已经在半导体器件制造厂商中投入使用的KrF半导体光刻机“FPA-6300ES6a”※6，无需更换设备即可通过使用“Grade10”升级包进一步提高生产效率。

未来，佳能将继续带来多样化的解决方案，并提供能够有效提升生产效率的配件升级，更好地满足半导体光刻设备市场的需求。

*1 使用波长248nm，由氪（Kr）气体和氟（F）气体产生的激光的半导体光刻机。1纳米（纳米）是10亿分之一米。*2在300mm晶圆规格基础上和96次曝光条件下，每小时的晶圆曝光处理数量。

*3在支持300mm晶圆规格的KrF半导体曝光设备中；统计时间截至2022年6月12日（佳能调查显示）。

*4 模仿脑神经结构的机器学习算法之一。

*5 单机自身的套刻精度。

*6 需要应用于KrF半导体光刻机“FPA-6300ES6a”的Plus机型。

**为方便读者理解，本文中佳能可指代：佳能光学设备（上海）有限公司，佳能（中国）有限公司，佳能股份有限公司，佳能品牌等

声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表德赢Vwin官网网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。举报投诉

佳能

佳能

+关注

关注
2

文章
388

浏览量
39585
光刻机

光刻机

+关注

关注
31

文章
1150

浏览量
47378

用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍

本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。芯片制造：光刻技术的演进过去半个多世纪，摩尔定律一直推动着半导体技术的发展，但当光刻机

发表于 11-24 11:04 •436次阅读

光刻机的工作原理和分类

，是半导体产业皇冠上的明珠。芯片的加工过程对精度要求极高，光刻机通过一系列复杂的技术手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图

发表于 11-24 09:16 •979次阅读

今日看点丨TCL收购LGD广州厂；佳能首次出货纳米压印光刻机

其中。报道援引知情人士的消息称，苹果退出了最近一轮的谈判，该轮融资预计将于下周结束。另外两家科技巨头公司微软和英伟达也参与了这一轮谈判。有消息称微软预计将在此前已向该公司投资130亿美元的基础上再投资约10亿美元。 2. 佳能首次出货纳米压印

发表于 09-29 11:24 •914次阅读

净化机与光刻机：陌路交错，携手开创行业未来

光刻机被称为“半导体行业的璀璨明珠”，融合了光学、流体力学、表面物理与化学、精密仪器、软件和图像等多个领域的尖端技术，其构造由十几万个部件组成。全球有超过5000家领先企业提供相关设备，包括来自德国

发表于 09-26 09:06 •275次阅读

半导体产业竞速:Hyper-NA EUV光刻机挑战与机遇并存

。在这场技术竞赛中，光刻机作为半导体制造的核心设备，其重要性不言而喻，而荷兰巨头阿斯麦（ASML）无疑是这一领域的领航者。

发表于 07-03 14:46 •2413次阅读

俄罗斯首台光刻机问世

据外媒报道，目前，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已组装并制造了第一台国产光刻机，作为泽廖诺格勒技术生产线

发表于 05-28 15:47 •769次阅读

ASML发货第二台High NA EUV光刻机，已成功印刷10nm线宽图案

ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机，并且已成功印刷出10纳米线宽图案，这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。

发表于 04-29 10:44 •806次阅读

光刻机的常见类型解析

光刻机有很多种类型，但有时也很难用类型进行分类来区别设备，因为有些分类仅是在某一分类下的分类。

发表于 04-10 15:02 •1859次阅读

光刻机的发展历程及工艺流程

光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机

发表于 03-21 11:31 •6221次阅读

ASML光刻机技术的领航者，挑战与机遇并存

ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色，其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。

发表于 03-05 11:26 •1213次阅读

光刻胶和光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。

发表于 03-04 17:19 •4695次阅读

佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机

来源：DIGITIMES ASIA 佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货，与ASML的EVU设备竞争市场，因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。佳能董事长兼首席执行官Hiroaki

发表于 02-01 15:42 •962次阅读

光刻机结构及IC制造工艺工作原理

光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。

发表于 01-29 09:37 •3203次阅读

荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可中方回应美停止对华供光刻机

在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后，美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示，出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。

发表于 01-03 15:22 •1116次阅读

英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。

发表于 12-28 11:31 •878次阅读