中国突破2nm芯片技术 台积电2nm芯片量产
台积电公布了下一代的2nm制程技术的部分细节信息，同时预计N2工艺将于2025年内量产。
在工艺技术方面台积电N2工艺制程是首个使用环绕栅极晶体管 （GAAFET） 的节点，将提供全面的性能和功率优势，同时在速度和功耗上都有着明显提升。
N2工艺带来两大纳米片晶体管和backside power rail两大重要创新技术，可以在降低成本和功耗的同时提高性能，同时还可利用工艺技术解决对抗电阻的问题。
综合IT之家整合
审核编辑：郭婷
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