台积电在开发2纳米芯片的量产技术方面处于领先地位,最先进的节点92%来自中国台湾台积电。2019年,台积电便宣布启动2nm工艺的研发,使其成为第一家宣布开始研发2nm工艺的公司。
台积电的第一家2nm工厂位于台湾北部新竹县宝山附近的工厂。就在今年6月 5日台积电宣布将投资1兆元扩大2nm工艺芯片的产量。配合台积电2纳米建厂计划,中科台中园区扩建二期开发计划如火如荼展开。台积电供应链透露,台积电在中科除了规划2纳米厂,后续的1纳米厂也可能落脚此处。
关于2nm的技术进展,据外媒eetimes报道,台积电早前与少数几家媒体分享了其工艺路线图,正在评估CFET等工艺技术,以将其当作纳米片的“接班人”。按照他们所说,台积电将在2025年推出使用纳米片晶体管的2nm工艺。据台积电业务发展副总裁 Kevin Zhang介绍,CFET是一个选择,且目前还处于研发阶段,所以他也不能提供其任何时间表。Kevin Zhang同时指出,3 nm 将是一个长节点。在该节点上将有大量需求。而那些对计算能效有更高要求的客户可以率先转向2nm。
目前,台积电的2nm开发已经走上正轨,魏哲家表示,台积电2纳米技术去年已经进入技术开发阶段,着重于测试载具的设计与实作、光罩制作、以及硅试产。总的来说,台积电采用新工艺技术的速度越来越慢。传统上,台积电每两年使用一个全新节点开始生产。台积电的 N7于 2018 年 4 月开始爬坡,N5 于 2020 年 4 月进入 HVM,但 N3 仅在 2022 年下半年用于商业生产。对于N2,我们显然看到了更长的节奏,这也说明了工艺节点越来越难研发和攻克。
毫无疑问,从现在开始展望未来五年,半导体业务将会很艰难,因为随着摩尔定律的推进,缩小晶体管尺寸将变得越来越困难,并且预期的晶体管成本比例下降趋于平缓。
本文整合自:摩尔芯闻、半导体行业观察
责任编辑:符乾江
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