华林科纳湿电子化学品工作站为湿法制程研究保驾护航
前言
湿法制程工艺即制造过程中需要使用化学药液的工艺，被广泛使用于集成电路、平板显示、太阳能光伏等领域的制造过程中。以集成电路领域为例，晶圆制造过程中，去胶、显影、刻蚀、清洗都属于湿法制程是，都离不开湿电子化学品的使用。
随着我国各行业对芯片需求的日益增长，这类型仪器购买量日益增加。然而市场上湿法制程相关设备基本以非标定制为主，设备体型大，交付时间长、造价高昂，往往忽略了实验室对场地、成本控制的要求。
华林科纳湿电子化学品工作站解决方案
作为在泛半导体湿法制程领域深耕二十年的华林科纳，在湿法设备的设计与生产中积累了丰富的经验，为实验室用户精心打造的湿电子化学品工作站，以标准模块化设计，满足实验室在处理湿电子化学品过程中的需求。提供包括匀胶、去胶、显影、酸洗、碱洗、QDR清洗、超声波清洗、干燥等功能。特有的智能排风及FFU净化系统，保障了实验人员的安全和实验结果的准确。湿电子化学品工作站标准化生产，造价低、组合灵活，可以满足集成电路、光伏、液晶显示等众多行业及各类研究机构和大学院校的实验需求，努力为湿法制程研究保驾护航！
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