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龙图光罩:致力于高端半导体掩模版国产化的先锋

第三代半导体产业 来源:第三代半导体产业 2024-01-12 10:18 次阅读

1月3日,证监会官网披露了深圳市龙图光罩股份有限公司(以下简称“龙图光罩”或公司)首次公开发行股票注册的批复,公司IPO注册获同意。公司本次发行的股票数量为不超过3,337.50万股,将于上交所科创板上市。

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source:龙图光罩招股书

龙图光罩主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售,是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。公司紧跟国内特色工艺半导体发展路线,不断进行技术攻关和产品迭代,半导体掩模版对应下游半导体产品的工艺节点从1μm逐步提升至130nm1,产品广泛应用于功率半导体、MEMS传感器IC封装、vwin IC等特色工艺半导体领域,终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子工业控制无线通信物联网消费电子等场景。

公司是国家工信部认定的专精特新“小巨人”企业,此外还获得广东省功率半导体芯片掩模版工程技术研究中心认定、广东省专精特新中小企业认定、国家高新技术企业认定等。截至2023年6月30日,公司拥有发明专利15项,实用新型专利26项,计算机软件著作权31项。

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2020年-2023年上半年,应用于功率半导体领域的掩模版是龙图光罩最主要的收入来源,且营收和营收占比呈现逐年递增的趋势。龙图光罩指出,在功率半导体掩模版领域,公司的工艺节点已覆盖全球功率半导体主流制程的需求。

龙图光罩本次拟使用募集资金66,320.00万元,主要用于高端半导体芯片掩模版制造基地项目、高端半导体芯片掩模版研发中心项目、补充流动资金项目。

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其中,“高端半导体芯片掩模版制造基地项”是通过对公司现有核心产品的技术升级,实施更高制程(130nm-65nm节点)半导体掩模版的开发及产业化,加速实现130nm工艺节点以下半导体掩模版的国产替代进程;“高端半导体芯片掩模版研发中心项目”则将根据市场及客户的需求开展高端半导体掩模版技术工艺的研发。

龙图光罩表示,未来公司将跟随国家半导体行业发展战略,围绕高端半导体芯片掩模版领域,持续加大研发投入和资金投入,逐步实现90nm、65nm以及更高节点的高端制程半导体掩模版的量产与国产化配套,形成“深耕特色工艺,突破高端制程”的发展战略和思路。

未来三至五年,公司将利用现有的优势和产品竞争力,扩大国内特色工艺半导体市场掩模版的市场占有率,同时大力推进高端半导体芯片掩模版项目建设,实现高端半导体掩模版技术突破,不断提升制程节点。

审核编辑:黄飞

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原文标题:募资6.6亿,第三代半导体掩模版厂商龙图光罩即将上市

文章出处:【微信号:第三代半导体产业,微信公众号:第三代半导体产业】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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