冠石半导体光掩模版项目在宁波顺利封顶
近日，宁波冠石半导体光掩模版项目顺利封顶，该项目坐落于宁波前湾新区，自2023年5月16日签约至今年的10月1日正式动工，仅用了短短的8个月。
据了解，该项目预计总投资额接近20亿元，其中已初步投入16亿元，占地约68.8亩，整个建设周期预定60个月，主要致力于45-28nm成熟制程半导体光掩膜板的研发和生产。
资料显示，宁波冠石半导体正是专注于半导体光掩模版生产的产业头部企业，产品主要适用于45-28nm的半导体光掩模版的大规模制造。
光掩模版作为光刻工艺中所必需的图形转换工具或模板，其作用类似于相机中的“底片”，是显示面板驱动IC（简称“DDIC”）生产过程中的关键材料之一。冠石科技指出，本项目建成并达产后，将与公司现有的业务形成良好的协同效应，以满足现有客户的潜在需求。
早在去年5月份，冠石科技就与宁波前湾新区管理委员会签署了合作协议，确定将项目落户该区域。宁波前湾新区管委会承诺将全力协助冠石科技申报省市重点项目，以及积极争取各项国家、省级、市级政策优惠。
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