在最近的一次IFS Direct Connect盛会上,英特尔为大家揭示了Intel 18A工艺之后的全新技术布局,一份详尽的工艺路线图随之揭晓。其中,最令人瞩目的是,除了既定计划,公司还引入了Intel 14A制程技术和一系列专业节点的进化版本,这无疑是业界的一大突破。
令人惊喜的是,英特尔选择在Intel 14A阶段才引入High-NA EUV光刻技术,而非之前的Intel 18A。这一决策显示了英特尔在技术创新上的深思熟虑和精准布局。
据SeDaily最新报道,在SPIE 2024光学与光子学会议这一业界盛会上,英特尔高级副总裁Anne Kelleher分享了振奋人心的消息。她指出,相较于Intel 18A工艺,Intel 14A每瓦性能提升高达15%,而增强版的Intel 14A-E更是在此基础上再提升5%的性能。同时,Intel 14A工艺的晶体管逻辑密度相较于Intel 18A工艺提升了20%,这一进步无疑为芯片性能的提升奠定了坚实的基础。
根据英特尔的新规划,Intel 14A工艺有望在2026年与我们见面,而更先进的Intel 14A-E工艺则预计将在2027年问世。然而,至今我们尚未见到任何基于Intel 14A和Intel 14A-E工艺的具体产品,这无疑为未来的科技发展留下了巨大的想象空间。
尽管在晶圆代工领域,英特尔视台积电为强劲的竞争对手,但现实情况却是,英特尔的客户端处理器越来越多的模块已经交由台积电制造,甚至可能包括最为核心的计算模块。这一转变不仅体现了英特尔在业务模式上的灵活调整,也预示着全球半导体产业正在经历一场深刻的变革。
去年6月,在“代工模式投资者网络研讨会”上,英特尔详细阐述了其内部晶圆代工业务模式的转型策略。从2024年第一季度开始,设计与制造业务将正式分离,内部设计部门与制造业务部门之间将建立起一种“客户-供应商”的新型关系。这种变革不仅意味着制造业务部门将独立运营,并拥有独立的财报,更展现了英特尔在全球半导体产业中的强大竞争力和战略眼光。
英特尔雄心勃勃地希望在2030年之前超越三星,成为晶圆代工领域的第二大厂商。这一目标的设定,无疑为英特尔未来的发展指明了方向,也让我们对英特尔在全球半导体产业的未来充满期待。
审核编辑:黄飞
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