光刻胶旋转涂胶的原因-德赢Vwin官网网

光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。

光刻胶是一种有机化合物，它受紫外线曝光后在显影液中的溶解度发生显著变化，而未曝光的部分在显影液中几乎不溶解。光刻胶在半导体制造过程中用于在硅片上形成精细的图案。旋转涂胶是一种常用的光刻胶涂覆技术，它通过高速旋转硅片来实现光刻胶的均匀分布。

旋转涂胶的步骤通常包括：

首先在硅片中心滴上一定量的光刻胶，硅片开始缓慢旋转，以便光刻胶能够流动并覆盖硅片的表面。随后硅片旋转速度加快，由于离心力的作用，光刻胶会向硅片边缘扩散。随着旋转速度的增加，光刻胶在硅片表面形成一个均匀的薄膜，当达到所需的胶膜厚度后，硅片逐渐减速至停止。

旋转涂胶技术的优势包括：

均匀性：旋转涂胶可以产生非常均匀的胶膜厚度，这对于保证光刻过程中图案的一致性至关重要。

减少缺陷：通过控制旋转速度和加速度，可以减少气泡和颗粒等缺陷的产生。提高效率：旋转涂胶是一种快速的涂覆方法，可以提高生产效率。

节省材料：由于胶膜的均匀性和可控性，旋转涂胶可以减少光刻胶的使用量。适应性强：旋转涂胶技术适用于不同的光刻胶类型和硅片尺寸。旋转涂胶过程中，需要精确控制旋转速度、加速度和持续时间等参数，以确保胶膜的质量和一致性。此外，涂胶后的软烘过程也非常重要，它有助于固化胶膜，减少光刻过程中的变形。

审核编辑：黄飞

声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表德赢Vwin官网网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。举报投诉

光刻胶

光刻胶

+关注

关注
10

文章
317

浏览量
30218

原文标题：光刻胶为什么要旋转涂胶

文章出处：【微信号：bdtdsj，微信公众号：中科院半导体所】欢迎添加关注！文章转载请注明出处。

Futurrex高端光刻胶

Futurrex,成立于1985年，位总部设在美国新泽西州，富兰克林市。公司业务范围覆盖北美、亚太以及欧洲。Futurrex在开发最高端产品方面已经有很长的历史，尤其是其光刻胶

发表于 04-21 10:57

光刻胶残留要怎么解决？

这是我的版图一部分，然后生成了图案是这样的：感觉间距小的地方全都有残留，间距大的地方没有残留；工艺参数：s9920光刻胶， evg 620‘未进行蒸汽底漆层涂覆，前烘：100摄氏度，90s

发表于 11-29 14:59

Microchem SU-8光刻胶 2000系列

SU 8光刻胶系列产品简介：新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的

发表于 07-04 14:42

光刻胶

SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶

发表于 07-12 11:57

光刻胶在集成电路制造中的应用

（电子科技大学微电子与固体电子学院，成都 610054）摘要：光刻胶技术是曝光技术中重要的组成部分,高性能的曝光工具需要有与之相配套的高性能的光刻胶才能真正获得高分辨率的加工能力。主要围绕光刻胶

发表于 08-23 11:56

光刻胶有什么分类？生产流程是什么？

光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负

发表于 11-07 09:00

喷胶机有什么典型应用？

喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比

发表于 03-23 09:00

负光刻胶显影残留原因

151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留，找不到原因。各位帮分析下

发表于 04-20 13:13

光刻胶是芯片制造的关键材料，圣泉集团实现了

这是一种老式的旋转涂胶机，将芯片上涂上光刻胶然后将芯片放到上边，可以通过机器的旋转的力度将光刻胶均匀分布到芯片表面，

发表于 05-17 14:39 •1.9w次阅读

光刻胶板块的大涨吸引了产业注意，国产光刻胶再遇发展良机？

5月27日，半导体光刻胶概念股开盘即走强，截至收盘，A股光刻胶板块涨幅达6.48%。其中晶瑞股份、广信材料直线拉升大涨20%封涨停，容大感光大涨13.28%，扬帆新材大涨11.37%，南大光电

发表于 05-28 10:34 •2897次阅读

光刻胶的原理和正负光刻胶的主要组分是什么

光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent

发表于 10-21 16:40 •2.1w次阅读

光刻胶黏度如何测量？光刻胶需要稀释吗？

光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻胶

发表于 11-13 18:14 •1538次阅读

关于光刻胶的关键参数介绍

与正光刻胶相比，电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解，而曝光的光刻胶

发表于 03-20 11:36 •2536次阅读

光刻胶的保存和老化失效

我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能，但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题，其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且，在

发表于 07-08 14:57 •922次阅读

导致光刻胶变色的原因有哪些？

存储时间正胶和图形反转胶在存储数月后会变暗，而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料，在可见光谱的部分具有很强的吸收能力，对紫外灵敏度没有任何影响。这种变色过程

发表于 07-11 16:07 •544次阅读

搜索历史

光刻胶旋转涂胶的原因

评论

Futurrex高端光刻胶

光刻胶残留要怎么解决？

Microchem SU-8光刻胶 2000系列

光刻胶

光刻胶在集成电路制造中的应用

光刻胶有什么分类？生产流程是什么？

喷胶机有什么典型应用？

负光刻胶显影残留原因

光刻胶是芯片制造的关键材料，圣泉集团实现了

光刻胶板块的大涨吸引了产业注意，国产光刻胶再遇发展良机？

光刻胶的原理和正负光刻胶的主要组分是什么

光刻胶黏度如何测量？光刻胶需要稀释吗？

关于光刻胶的关键参数介绍

光刻胶的保存和老化失效

导致光刻胶变色的原因有哪些？