美光日本广岛DRAM新厂预计2027年量产
全球知名的DRAM大厂美光，早在去年就已宣布了其在日本广岛的重大投资计划。据悉，美光计划斥资6,000至8,000亿日元，在广岛兴建一座全新的DRAM工厂。这一项目预计将在2026年初破土动工，最快有望在2027年底前完成厂房建设、机台设备安装，并正式投入营运。
新厂的选址颇具深意，将紧邻美光已建成的Fab15工厂。这一地理位置的选择不仅有利于资源的整合与共享，更能充分利用现有的基础设施和供应链网络，确保新厂建设的顺利进行。
据美光透露，新厂初期规划主要聚焦于DRAM晶圆的生产，暂不涉及后段的封装及测试环节。而产能方面，将重点投向HBM（高带宽内存）产品，以满足市场对高性能、大容量存储器的不断增长的需求。
尤为值得一提的是，美光广岛DRAM新厂将首次引入极紫外光（EUV）光刻设备。这一技术的引入，将使得新厂能够生产先进的1-Gamma制程DRAM，并在后续逐步导入1-Delta制程。随着制程技术的不断升级，EUV设备的安装数量也将大幅增加，并将采用更多高标准的无尘室来确保生产环境的纯净度。
美光此次在日本广岛兴建DRAM新厂，不仅是对其全球布局的一次重要补充，更是对先进制程技术的一次大胆尝试。随着新厂的建成投产，美光有望在DRAM市场上继续保持领先地位，为全球客户提供更优质的产品和服务。
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