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Nexperia斥资2亿美元,布局未来宽禁带半导体产业

要长高 2024-06-28 16:56 次阅读

在全球电气化和数字化浪潮不断加速的今天,半导体技术作为其核心驱动力,正迎来前所未有的发展机遇。近日,全球知名半导体制造Nexperia(安世半导体)宣布,将斥资2亿美元(约合1.84亿欧元)用于下一代宽禁带半导体(WBG)的研发和生产,包括碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等高性能材料,进一步巩固其作为全球节能半导体领导者的地位。

此项重大投资正值Nexperia位于德国汉堡的晶圆厂成立100周年之际,具有里程碑意义。该晶圆厂自1924年Valvo Radioröhrenfabrik创立以来,经过不断的技术革新和产业升级,如今已成为全球小信号二极管晶体管的重要生产基地,为全球约四分之一的需求提供支持。

随着能源效率日益成为全球关注的焦点,宽禁带半导体技术的应用显得尤为重要。SiC和GaN作为其中的佼佼者,以其优异的性能在数据中心、可再生能源和电动汽车等领域展现出巨大的潜力。Nexperia此次投资,正是为了抓住这一历史机遇,通过研发和生产高性能的宽禁带半导体产品,为全球客户提供更高效、更环保的解决方案。

Nexperia德国首席运营官兼常务董事Achim Kempe表示:“这项投资不仅将巩固我们在节能半导体领域的领先地位,还将使我们能够更负责任地利用电能。未来,我们的汉堡晶圆厂将全面覆盖宽禁带半导体产品线,继续为全球客户提供高质量、具有成本效益的半导体产品。”

为了实现这一目标,Nexperia计划从2024年6月开始,在德国汉堡工厂正式开展SiC、GaN和Si三种技术的研发和生产工作。首条高压D-Mode GaN晶体管和SiC二极管生产线已于今年6月投入使用,标志着Nexperia在宽禁带半导体领域迈出了坚实的一步。

除了生产线的建设外,Nexperia还将加大对汉堡工厂基础设施的自动化投入,并通过逐步转向使用200毫米晶圆来扩大硅的产能。同时,新的研发实验室也在建设中,以确保从研究到生产的无缝过渡。

值得一提的是,Nexperia此次投资还将对当地经济产生积极影响。通过保障和创造就业机会、增强欧盟半导体自给自足的能力等方式,为当地经济发展注入新的活力。同时,Nexperia还与大学和研究机构保持密切合作,共同推动高素质的员工培训和技术创新。

Nexperia德国首席财务官兼常务董事Stefan Tilger表示:“作为全球少数几家能够提供全线半导体技术产品系列的供应商之一,Nexperia致力于为客户提供一站式服务,满足他们所有的半导体需求。此次投资将使我们能够在汉堡开展宽禁带芯片的设计和生产工作,进一步巩固我们在全球半导体市场的领先地位。”

展望未来,Nexperia将继续秉承创新、高效、环保的理念,为全球客户提供更优质的半导体产品和服务,助力实现能源高效利用和减排目标。

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