单面磷化铟晶片的制备方法有哪些？-德赢Vwin官网网

单面磷化铟晶片的制备方法主要包括以下步骤：

一、基本制备流程

研磨：采用研磨液对InP（磷化铟）晶片进行研磨。研磨液通常包含水、Al2O3（氧化铝）和悬浮剂，其中Al2O3的粒径通常在400~600目范围内，研磨液的流量控制在500~800mL/min，研磨压力为3~5psi。

一次腐蚀：对InP晶片进行湿法化学腐蚀，以去除黏附在晶片表面的研磨磨料，并释放加工过程中产生的应力。腐蚀剂通常包含盐酸和双氧水，腐蚀时间一般为50~80秒。

减薄：采用砂轮磨削将InP晶片进行减薄，以进一步降低损伤层，消除塌边，改善晶片的平整度。

二次腐蚀：对InP晶片再次进行湿法化学腐蚀，以进一步去除晶片加工产生的应力。腐蚀剂与一次腐蚀相同，但腐蚀时间可能较短，一般为20~40秒。

粗抛：采用邵氏硬度范围在6090°的抛光垫和氯含量范围在710g/L的抛光液对InP晶片进行化学机械抛光。抛光压力为24psi，抛光液的流量为700900mL/min。

中抛：采用邵氏硬度范围在2055°的抛光垫和氯含量范围在710g/L的抛光液对InP晶片进行化学机械抛光。抛光压力为1.52.5psi，抛光液的流量同样为700900mL/min。

精抛：采用邵氏硬度范围在2055°的抛光垫和氯含量范围在46.5g/L的抛光液对InP晶片进行化学机械抛光。抛光压力为1.52.5psi，但抛光液的流量降低为300500mL/min。

二、其他制备方法

除了上述详细的制备步骤外，磷化铟单晶的制备还可以采用以下方法：

双坩埚加热装置法：该方法以双坩埚加热装置为基础，有效降低了产品在制备过程中坩埚的损坏概率，从而降低了制备磷化铟单晶因坩埚内壁损坏而造成的多晶、孪晶等缺陷。同时，所得产品的晶棒长度可以显著增加，晶体的品质也有所提升。

高压溶液提拉法：将盛有磷化铟多晶的石英坩埚置于高压设备内进行，用电阻丝或高频加热，在惰性气体保护下让晶体生长。为了提高InP单晶质量，降低位错密度，可通过掺杂（如Sn、S、Zn、Fe、Ga、Sb等）以减少位错。

气相外延法：多采用In-PCl3-H2系统的歧化法，在该工艺中用高纯度的铟和三氯化磷之间的反应来生长磷化铟层。

这些方法各有特点，可以根据具体需求和实验条件选择适合的制备方法。同时，在制备过程中需要严格控制各项参数和条件，以确保获得高质量的单面磷化铟晶片。

三、高通量晶圆测厚系统

高通量晶圆测厚系统以光学相干层析成像原理，可解决晶圆/晶片厚度TTV（Total Thickness Variation，总厚度偏差）、BOW（弯曲度）、WARP（翘曲度），TIR（Total Indicated Reading 总指示读数，STIR（Site Total Indicated Reading 局部总指示读数），LTV（Local Thickness Variation 局部厚度偏差）等这类技术指标。