本文研究了金属蚀刻残留物，尤其是钛和钽残留物对等离子体成分和均匀性的影响。通过所谓的漂浮样品的x射线光电子能谱分析来分析室壁，并且通过光发射光谱来监测Cl2、HBr、O2和SF6等离子体中的Cl
2022-05-05 14:26:56
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我们华林科纳讨论了一些重要的等离子体蚀刻和沉积问题（从有机硅化合物）的问题，特别注意表面条件，以及一些原位表面诊断的例子。由于等离子体介质与精密的表面分析装置不兼容，讲了两种原位表面调查的技术
2022-05-19 14:28:151731 
台积电0.18工艺电源电压分别是多少？是1.8v跟3.3v吗？
2021-06-25 06:32:37
台积电宣布5nm基本完工开始试产：面积缩小45%、性能提升15%.pdf(105.52 KB)
2019-04-24 06:00:42
` 观点：在技术领先的优势下，台积电获得苹果iPhone5芯片追加订单已成事实。然而，在iPhone 5推出后，苹果已朝下一世代A7处理器迈进，台积电凭借技术领先的优势，预估未来1-2年内
2012-09-27 16:48:11
台积电正在大量生产用于苹果iPhone8手机的10nm A11处理器。消息称，苹果可能在下个月初正式发布iPhone 8，但是具体发货日期仍然不确定。 据悉，台积电已经采用10nm FinFET
2017-08-17 11:05:18
液晶显示器(LCD)之后的最新显示技术之一。这种显示器能够用作适应数字化时代的各种多媒体显示器，适用于制造大屏幕和薄型彩色电视机等，有着广阔的应用前景。等离子体显示器具有体积小、重量轻、无X射线辐射
2011-01-06 16:09:23
空间。在两块玻璃基板的内侧面上涂有金属氧化物导电薄膜作激励电极。 当向电极上加入电压，放电空间内的混合气体便发生等离子体放电现象。色彩还原能力好，显示色彩自然。由于等离子电视是通过紫外线激发荧光粉发光
2014-02-10 18:20:48
当高频发生器接通电源后，高频电流I通过感应线圈产生交变磁场(绿色)。开始时，管内为Ar气，不导电，需要用高压电火花触发，使气体电离后，在高频交流电场的作用下，带电粒子高速运动，碰撞，形成“雪崩”式放电，产生等离子体气流。
2019-10-09 09:11:46
合有局限，不适用于聚四氟乙烯微波板的三防涂覆前处理。 基于以上原因，开展了应用等离子体处理法替代钠萘处理法进行聚四氟乙烯表面活化处理的研究工作。
2019-05-28 06:50:14
或高温等特殊环境中才能产生等离子体。为了区别于传统的高温等离子体，人们称之为低温大气压等离子体（低温等离子体）。低温等离子体照射材料会产生多种影响。它们可以通过分解有机材料来清洁和消毒物体，通过增加
2022-05-18 15:16:16
等离子体显示器又称电浆显示器，是继CRT(阴极射线管）、LCD（液晶显示器）后的最新一代显示器，其特点是厚度极薄，分辨率佳。可以当家中的壁挂电视使用，占用极少的空间，代表了未来显示器的发展趋势（不过对于现在中国大多...
2021-04-20 06:33:47
%。西安二厂预计将生产13.5万片，比之前的14.5万片减少了约7%。业界观察人士认为，三星选择砍掉部分NAND产能，因为当前内存市场形势惨淡。
【台积电28nm设备订单全部取消！】
4月消息，由于
2023-05-10 10:54:09
以内的分子键，诱导削减一定厚度，生成凹凸表面，同时形成气体成分的官能团等表面的物理、化学变化，提高镀铜粘结力、除污等抄板作用。 上述等离子体处理用气体常见的有氧气、氮气和四氟化碳气。下面通过由氧气和四
2018-11-22 16:00:18
，提高镀铜粘结力、除污等抄板作用。麦|斯|艾|姆|P|CB样板贴片,麦1斯1艾1姆1科1技全国1首家P|CB样板打板 上述等离子体处理用气体常见的有氧气、氮气和四氟化碳气。下面通过由氧气和四氟化碳气所
2013-10-22 11:36:08
特殊板材，采用图形蚀刻后电镀可焊性涂覆层时，由于线路边缘蚀刻不净的铜微粒的存在，会造成阴影电镀现象，严重时将导致产品报废。此时，可选用等离子体处理技术，通过烧蚀的方法将铜的细小微粒除去，最终实现合格产品的加工。
2018-09-21 16:35:33
`电路板厂家生产高密度多层板要用到等离子体切割机蚀孔及等离子体清洗机.大致的生产工艺流程图为:PCB芯板处理→涂覆形成敷层剂→贴压涂树脂铜箔→图形转移成等离子体蚀刻窗口→等离子体切割蚀刻导通孔→化学
2017-12-18 17:58:30
等离子清洗机工作原理1、何谓等离子清洗机 等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物
2012-09-25 16:21:58
或高温等特殊环境中才能产生等离子体。为了区别于传统的高温等离子体，人们称之为低温大气压等离子体（低温等离子体）。低温等离子体照射材料会产生多种影响。它们可以通过分解有机材料来清洁和消毒物体，通过增加
2022-05-17 16:41:13
转自http://www.eet-china.com/ART_8800697889_480201_NT_08124b24.HTM台积电借16nm FinFET Plus及InFO WLP 通吃英特尔
2014-05-07 15:30:16
，等离子体仿真实战COMSOL Multiphysics 半导体器件电、热、力多场耦合模块1.对器件的电学、固体传热、流体传热及力学基础理论分析2.对焦耳热、流固热传递、结构热应力理论化分析3.电热、热力、流
2019-12-10 15:24:57
uPD16305的性能特点是什么？uPD16305在等离子体显示器中有什么应用？
2021-06-04 06:54:10
大多数 III 族氮化物的加工都是通过干式等离子体蚀刻完成的。 干式蚀刻有几个缺点，包括产生离子诱导损伤 并且难以获得激光所需的光滑蚀刻侧壁。通过干法蚀刻产生的侧壁的粗糙度约为 50 nm，尽管最近
2021-07-07 10:24:07
芯片PMIC 5即将问世，由于改为BCD制程，台积电凭借先进制程技术优势，可望拿下高通新一代PMIC 5订单约70~80%数量，并牵动高通电源管理芯片代工厂大洗牌。 业界推估高通各种用途电源管理芯片的年
2017-09-22 11:11:12
了高通的订单。之后，中芯国际凭借极具竞争力的价格从Globalfoundries手中夺走了订单，成为高通电源管理芯片的主要合作伙伴。我们知道，在高通的帮助下，中芯国际实现了28nm工艺量产，而且还加快14nm硅片的量产。由于产能、价格及新芯片技术的原因，此次高通将电源管理芯片交给了台积电生产。
2017-09-27 09:13:24
;nbsp; 很多人会回答：我想当高级主管，进台积联电赚股票。因为我崇拜张忠谋、曹兴诚。以下是我就业三年以来，对***电子信息产业的一些看法： &
2009-08-23 11:28:40
”。目前中国中微半导体的5 nm等离子体刻蚀机已经通过台积电验证，与国际刻蚀机巨头泛林、应用材料、东京电子、日立属于国际第一梯队，属于技术领先阵列，但是光刻机就差多了。纵观全球市场，占据着绝大部分光刻机
2019-08-10 14:36:57
从7nm到5nm，半导体制程芯片的制造工艺常常用XXnm来表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工艺。所谓的XXnm指的是集成电路的MOSFET晶体管栅极
2021-07-29 07:19:33
量大、操作简单、成本低、无二次污染等特点，成为今年来研究的热点。低温等离子体治理异味气体，是利用产生的高能电子的作用，通过碰撞将能量转化为污染物分子的内能或动能，这些获得能量的分子被激发或发生电离形成
2022-04-21 20:29:20
Research、东京电子和中微半导体，而通过台积电5nm工艺认证的则更少。在这个领域，中国大陆的中微半导体取得了可喜的进步，其5nm蚀刻机已经打入台积电供应链。中微半导体主要生产蚀刻机、MOCVD等设备
2020-03-09 10:13:54
的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。等离子刻蚀刻机等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等
2018-09-03 09:31:49
7nm以下的工艺也将导入EUV技术。据***媒体报道，台积电5nm制程将于今年第二季度量产。据台积电介绍， 5nm是台积公司第二代使用极紫外光（EUV）技术的制程，其已展现优异的光学能力与符合预期的良好
2020-02-27 10:42:16
各类常用工艺库台积电，中芯国际，华润上华
2015-12-17 19:52:34
1.引言微波测量方法是将电磁波作为探测束入射到等离子体中，对等离子体特性进行探测，不会对等离子体造成污染。常规微波反射计也是通过测量电磁波在等离子体截止频率时的反射信号相位来计算等离子密度。当等离子
2019-06-10 07:36:44
【作者】：吕鹏;刘春芳;张潮海;赵永蓬;王骐;贾兴;【来源】：《强激光与粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍缩放电等离子体极紫外光源系统中的主脉冲电源,给出了主电路拓扑结构,重点介绍了三级磁
2010-04-22 11:41:29
电子设备的价格将上涨。台积电是苹果的主要芯片供应商，为苹果制造5nm芯片，用于iPhone 12、MacBook等产品中。而芯片是设备中最重要和最昂贵的组件之一。例如，iPhone 12最昂贵的三个
2021-09-02 09:44:44
spec-troscopy,LIBS)是近年发展起来的一种基于激光与材料相互作用的物理学与光谱学交叉的物质组分定量分析技术[1-3]。其原理是利用聚焦的强激光束入射样品表面产生激光等离子体,等离子体辐射光谱含有被测物质的组分和组分全文下载
2010-04-22 11:33:27
表面波等离子体激励源设计，不看肯定后悔
2021-04-22 07:01:33
，5nm也该提上日程了。1月中旬，台积电召开财报会议，董事长、被誉为***半导体教父的张忠谋亲自出席，执行CEO刘德音和魏哲家联席。2015年，台积电合并总营收额为8434.97亿元新台币（约为
2016-01-25 09:38:11
等离子体NOX 脱除技术作为一种脱硝新工艺，受到世界各国的广泛关注。在叙述了等离子体脱硝的的两种反应机理、等离子体NOX 脱除的主要方法（电子束照射法、高压脉冲电晕法
2009-02-13 00:35:58
12 采用分层介质方法处理非均匀等离子体层，研究了电磁波射向覆盖磁化等离子体层的金属平板时电磁波的衰减特性。着重讨论Epstein密度分布的等离子体层，分析了等离子体电子密
2009-03-14 15:07:3426 一种大气微波环形波导等离子体设备:微波等离子体相对其它等离子体而言有很多的优点，具有极高的工业应用价值。但在大气条件下，大体积的微波等离子体较难获得
2009-10-29 13:59:3214 斜辐照激光等离子体辐射X光子特性:在神光Ⅱ高功率激光装置上，实验研究了激光斜辐照形成的激光等离子体辐射X射线光子的特性及真空喷射热等离子体流的方向。采用
2009-10-29 14:11:3915 推导了磁场作用下等离子体流动的控制方程，采用加入人工粘性项的MacCormack二阶格式对方程进行了离散。计算了在不同磁场作用下，一维理想磁控等离子体在激波管内的流动情况
2010-01-11 11:39:5210 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准射频等离子体源 RF2100ICP Plasma Source上海伯东代理美国 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22
人类生活对能源的需求核聚变及受控核聚变原理等离子体约束的基本问题等离子体约束的各种模式等离子体输运与能量约束定标约束改善与边缘局域模控制总结和
2010-05-30 08:26:5614 利用微波在介质表面激发出截止密度以上的等离子体，然后微波在介质与等离子体间形成表面波的传输，具有一定电场强度的表面波在其传输的范围内可生成和维持高密度的等离子
2010-07-29 11:00:011057 
根据静电场理论给出了描述鞘层电位的Poisson方程、等离子体理论和Boltzmann方程，给出了粒子数密度守恒方程。通过牛顿运动定律建立了等离子体的动量方程。基于Poisson方程、粒子数密
2012-02-09 16:43:2117 等离子体钨极氩弧焊接枪为研究对象，通过求等离子体弧柱区域的能量方程、动量守恒、质量守恒及电流连续性方程。得到温度、速度、电流密度分布。
2012-03-28 15:20:2131 下小电流（0.1A）放电产生的低温等离子体进行了诊断。首先利用傅里叶变换和Abel逆变换，根据莫尔条纹图像提取了等离子体折射率分布曲线。然后通过求解等离子体物理方程，建立等离子体折射率与温度之间的对应关系。最后通过
2018-01-02 16:37:196 国内的中微电子已经研发成功5nm等离子刻蚀机，并通过了台积电的认证，将用于全球首条5nm工艺。
2018-12-20 08:55:2624197 中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。
2018-12-29 08:48:140 等离子体可以通过多种方式来产生，常见的方法主要包括：热电离法/射线辐照法/光电离法/激波等离子法/激光等离子法/气体放电法等。气体放电是指气体在电场的作用下被击穿引起的导电现象，而低温等离子体的产生方式主要是通过气体放电来实现的。下面主要介绍通过气体放电来产生低温等离子体的各种方式
2019-04-22 08:00:0035 等离子体位移快控电源设计(现代电源技术基础下载)-等离子体位移快控电源设计等离子体位移快控电源设计
2021-09-29 17:45:395 反应性离子蚀刻综合了离子蚀刻和等离子蚀刻的效果：其具有一定的各向异性，而且未与自由基发生化学反应的材料会被蚀刻。首先，蚀刻速率显著增加。通过离子轰击，基材分子会进入激发态，从而更加易于发生反应。
2022-09-19 15:17:553667 何时完全蚀刻了一个特定的层并到达下一个层。通过监测等离子体在蚀刻过程中产生的发射线，可以精确跟踪蚀刻过程。这种终点检测对于使用基于等离子体的蚀刻工艺的半导体材料生产至关重要。 等离子体是一种被激发的、类似气
2022-09-21 14:18:37743 
近年来，等离子体技术的使用范围正在不断扩大。在半导体制造、杀菌消毒、医疗前线等诸多领域，利用等离子体特性的应用不断壮大。CeraPlas® 是TDK 开发的等离子体发生器，与传统产品相比，它可以在紧凑的封装中产生低温等离子体*1，并具有更低的功耗。它有望促进各种设备的开发，使离子体技术更容易使用。
2023-02-27 17:54:38840 
氧等离子体和氢等离子体都可用于蚀刻石墨烯。两种石墨烯气体等离子刻蚀的基本原理是通过化学反应沿石墨烯的晶面进行刻蚀。不同的是，氧等离子体攻击碳碳键后形成一氧化碳、二氧化碳等挥发性气体，而氢等离子体则形成甲烷气体并与之形成碳氢键。
2022-06-21 14:32:25452 
等离子体清洗技术自问世以来，随着电子等行业的快速发展，其应用范围逐渐扩大，用于活化蚀刻和等离子体清洗，以提高胶粘剂的粘接性能。
2022-07-04 16:09:18496 
随着集成电路互连线的宽度和间距接近3pm，铝和铝合金的等离子体蚀刻变得更有必要。为了防止蚀刻掩模下的横向蚀刻，我们需要一个侧壁钝化机制。尽管AlCl和AlBr都具有可观的蒸气压，但大多数铝蚀刻的研究
2023-06-27 13:24:11377 
等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分，随着微电子技术的发展，等离子体清洗的优势越来越明显。文章介绍了等离子体清洗的特点和应用，讨论了它的清洗原理和优化设计方法。最后分析了等离子体清洗工艺的关键技术及解决方法。
2023-10-18 17:42:36582 
基于GaN的高电子迁移率，晶体管，凭借其高击穿电压、大带隙和高电子载流子速度，应用于高频放大器和高压功率开关中。就器件制造而言，GaN的相关材料，如AlGaN，凭借其物理和化学稳定性，为等离子体蚀刻
2023-12-13 09:51:24419 
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