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4大DRAM阵营竞争激烈 美光、尔必达提前导入40纳米

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2010-04-15 08:43:02 473

瑞晶预计提前转进30纳米制程

瑞晶一向是台系 DRAM厂中制程转换速度最快的业者,旗下8万片12寸晶圆厂领先在2011年转进 40 纳米制程,日前又在30 纳米制程上抢得头筹,且比原订进度 提前1个月达阵,在全球 竞争力上更上
2011-11-23 09:12:49 402

##上海进博会光是否能走出如今的困境?将参加上海进博会

深圳市浮思特科技有限公司 发布于 2023-10-11 12:01:56

英特尔今年底就将开始导入7纳米晶圆制程

根据Computer World报导,英特尔今年底就将开始 导入7 纳米晶圆制程,时间 提前于台积电与三星等 竞争者,巩固其半导体龙头的位置。日前,英特尔在盈余电话会议上宣布,为了进一步探索芯片生产工艺
2017-02-05 01:11:44 371

基于前导码挖掘的未知协议帧切分算法

针对未知协议帧切分技术存在的效率较低的问题,提出基于 前导码挖掘的未知协议帧切分技术。首先介绍 前导码作为标识链路帧起始位置的原理,分析候选序列选取问题是现有频繁序列挖掘方法无法对长度较长的 前导码进行
2017-12-06 16:53:08 0

三星二代10纳米将加速未来DRAM芯片问世 进一步抢攻DRAM市场商机

三星的 DRAM市场表现十分强劲,并在近日宣布量产其第二代10 纳米的8Gb DDR4 DRAM。为迎合市场庞大需求,三星将在明年扩大第一代DDR4 DRAM的产量。
2017-12-27 11:22:38 834

资料显示,DRAM存储器强力推动的导入将推动晶圆产能高于平均水准

根据市场研究公司IC Insights的资料,新的半导体制造产线——特别是 DRAM存储器的 导入,预计将推动2018年和2019年的晶圆总产能高于平均水准。
2018-07-06 12:51:00 1018

EUV光刻技术竞争激烈,三星7纳米EUV制程已完成新思科技物理认证,台积电紧追其后

在晶圆代工市场,台积电与三星的 竞争始终是大家关心的戏码。三星虽然有高通等VIP客户,但在7 纳米制程节点,高通预计会转投台积电,三星要想受更多客户的青睐,只能从制程技术着手了。这也是三星为什么跳过
2018-06-19 15:06:00 4522

10纳米DRAM制程竞争升温,SK海力士、美光加速追赶三星

2018-11-12 13:24 | 查看: 21 | 评论: 0 | 来自: 半导体产业网 摘要 : 10 纳米DRAM先进制程 竞争逐渐升温,三星电子在2017年率先宣布量产第二代10 纳米(1y
2018-11-12 18:04:02 253

小米与vivo竞争激烈高通从中获益

小米的小米9与vivo的iqoo形成了 激烈竞争,两款手机配置相似,定价相当,成为直接的 竞争对手,小编认为两家企业的 激烈 竞争其实最大受益者应该提供了高端芯片骁龙855的高通。
2019-03-10 09:39:34 1855

多家DRAM厂商开始评估采用EUV技术量产

继台积电、三星晶圆代工、英特尔等国际大厂在先进逻辑制程 导入极紫外光(EUV)微影技术后,同样面临制程微缩难度不断增高的 DRAM厂也开始评估采用EUV技术量产。三星电子今年第四季将开始利用EUV技术生产1z 纳米 DRAM,SK海力士及美光预期会在1α 纳米或1β 纳米评估 导入EUV技术。
2019-06-18 17:20:31 2438

DRAM厂将陆续导入EUV技术

DRAM厂商在面对 DRAM价格不断下跌的困境下,已经在考虑 导入EUV技术用于制造 DRAM,主要目的是为了降低成本。
2019-06-21 09:10:01 2047

DRAM大厂工艺推进1z纳米导入EUV设备扩大竞争门槛

2019年上半 DRAM价格下跌压力沉重,尽管上游产能调节以及传统旺季拉货需求逐渐回升,预料将有望支撑跌价趋缓,为了提高生产效益及拉大 竞争差距, DRAM大厂竞相推进下一代制程技术。
2019-06-21 16:43:14 2335

曝三星已开始量产6纳米制程 将与台积电展开竞争

在晶圆代工龙头台积电几乎通吃市场7 纳米制程产品的情况下, 竞争对手三星在7 纳米制程上几乎无特别的订单斩获。为了再进一步与台积电 竞争,三星则开始发展6 纳米制程产线与台积电 竞争,而且也在2019年12月开始进行量产。三星希望藉由6 纳米制程的量产,进一步缩小与台积电之间的差距。
2020-01-07 15:16:10 2524

美光科技开始提速EUVDRAM开发速度

美国美光科技开始提速EUV DRAM。加入到三星电子、SK海力士等全球第一、第二EUV厂商选择的EUV 阵营后,后续EUV 竞争或将更为 激烈
2020-12-25 14:43:13 1642

美光推出 1αDRAM制程技术:内存密度提升了40% 节能 15%

均有重大突破。 美光表示,对比上一代的 1z DRAM制程,1α 技术将内存密度提升了 40%。 美光计划于今年将 1α 节点全面 导入DRAM产品线,从而更好地支持广泛的 DRAM应用领域——为包括移动设备和智能车辆在内的各种应用提供更强的性能。 美光的 1α 技术节点使内存解决方
2021-01-27 13:56:03 1970

美光1αDRAM芯片工艺可提升密度40%

美光本周二公布其用于 DRAM的1α新工艺,该技术有望将 DRAM位密度提升 40%,功耗降低15%。 1α工艺最初被用于生产DDR4和LPDDR4内存,未来或将但覆盖美光所有类型的 DRAM
2021-01-29 15:03:44 2202

英特尔已大规模生产7纳米芯片 4纳米芯片准备中 并将导入3纳米

英特尔已大规模生产7 纳米芯片 4 纳米半芯片准备中 并将 导入3 纳米英特尔期望能够在2030年前成长为全球第二大晶圆代工厂,为了能够实现这个预期目标,英特尔将投资800亿美元在美国和德国建设新的芯片
2022-12-07 14:21:40 2860

DRAM制程分享

化挑战都是重大的。特别是,ASML 报告说,当中心到中心(center-to-center)值达到 40nm 时,即使对于 EUV ,也不推荐使用单一图案化。在本文中,我们将展示对于 12 纳米及更高节点的 DRAM节点,电容器中心到中心预计将低于 40 纳米,因此需要多重图案化。
2023-01-30 16:40:50 2898

12纳米后,DRAM怎么办?

化挑战都是重大的。特别是,ASML 报告说,当中心到中心(center-to-center)值达到 40nm 时,即使对于 EUV ,也不推荐使用单一图案化。在本文中,我们将展示对于 12 纳米及更高节点的 DRAM节点,电容器中心到中心预计将低于 40 纳米,因此需要多重图案化。
2023-02-07 15:08:55 381

美光科技:纳米印刷助降DRAM成本

近期的演示会上,美光详细阐述了其针对 纳米印刷与 DRAM制造之间的具体工作模式。他们提出, DRAM工艺的每一个节点以及浸入式光刻的精度要求使得物理流程变得愈发复杂。
2024-03-05 16:18:24 191

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