负责监管蓝牙技术的行业协会蓝牙技术联盟（SIG）近日发布了中文版市场研究报告《环境物联网：一种新型蓝牙物联网设备》，深入分析了这种新型物联网设备。
2024-03-11 15:08:54
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该环境物联网研究报告预测了物联网的发展演变和市场增长趋势 北京， 2024 年 3 月 6 日 ——负责监管蓝牙技术的行业协会蓝牙技术联盟（SIG）近日发布了中文版市场研究报告《环境物联网：一种
2024-03-06 11:07:2487 
根据已公开的研究报告，东京电子的新式蚀刻机具备在极低温环境下进行高速蚀刻的能力。据悉，该机器可在33分钟内完成10微米的蚀刻工作。此外，设备使用了新开发的激光气体，搭配氩气和氟化碳气体以提升工艺水平。
2024-02-18 15:00:22109 蚀刻时间和过氧化氢浓度对ZnO玻璃基板的影响 本研究的目的是确定蚀刻ZnO薄膜的最佳技术。使用射频溅射设备在玻璃基板上沉积ZnO。为了蚀刻ZnO薄膜，使用10%、20%和30%的过氧化氢（H2O2
2024-02-02 17:56:45306 
佐思汽研发布《2023-2024年全球和中国混合动力汽车研究报告》。
2024-01-25 13:54:501270 
为实现碳化硅晶片的高效低损伤抛光，提高碳化硅抛光的成品率，降低加工成本，对现有的碳化硅化学机械抛光 技术进行了总结和研究。针对碳化硅典型的晶型结构及其微观晶格结构特点，简述了化学机械抛光技术对碳化硅
2024-01-24 09:16:36431 
CGHV96050F1是款碳化硅(SiC)基材上的氮化镓(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)。与其它同类产品相比，这些GaN内部搭配CGHV96050F1具有卓越的功率附带效率。与硅或砷化镓
2024-01-19 09:27:13
CGHV40180是款氮化镓(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)。具备前所未有的输入，能够在DC-2.0GHz范围之内提供最好的的瞬时宽带性能。与硅或砷化镓相比较，CGHV40180具有更加优异
2024-01-02 12:05:47
转自：存储产业技术创新战略联盟 2023年11月30日， 存 储产业技术创新战略联盟、中国电子技术标准化研究院联合发布《分布式融合存储研究报告（2023）》，详细阐释分布式融合存储概念和技术要求
2023-12-21 18:05:01270 
这份报告由业内知名研究机构——MicroLED产业联合会公布。事实上，早在2000年，业界便开始关注MicroLED技术。该技术以其出色的亮度、丰富的色彩展现力以及超长的使用寿命引起了轰动。
2023-12-20 14:35:07333 FLK017XP型号简介Sumitomo的FLK017XP芯片是一种功率砷化镓场效应管，设计用于Ku频段的通用应用提供卓越的功率、增益和效率。Eudyna严格的质量保证计划确保可靠性和一致的性能
2023-12-19 12:00:45
FSX027X型号简介Sumitomo的FSX027X是一种通用砷化镓场效应管，设计用于介质高达12GHz的电源应用。这些设备具有广泛的动态适用于中功率、宽带、线性驱动放大器或振荡器。Eudyna
2023-12-19 11:48:16
世界各国不仅把6G作为构筑未来数字经济与社会发展的重要基石，也将其视为国家间前沿科技竞争的制高点。全球主要国家的多。个研究机构和联盟组织相继发布了6G总体愿景、技术趋势、网络架构等方面的白皮书和研究报告，陈述各国发展6G的宏伟愿景与技术思考。
2023-12-19 11:23:36151 
CREE的CGHV96130F是碳化硅(SiC)基材上的氮化镓(GaN)高迁移率晶体管(HEMT)与其他技术相比，CGHV96130F内部适应(IM)FET具有出色的功率附加效率。与砷化镓相比
2023-12-13 10:10:57
基于GaN的高电子迁移率，晶体管，凭借其高击穿电压、大带隙和高电子载流子速度，应用于高频放大器和高压功率开关中。就器件制造而言，GaN的相关材料，如AlGaN，凭借其物理和化学稳定性，为等离子体蚀刻
2023-12-13 09:51:24294 
了前所未有的灵活性和精确度，使其成为电池材料研究的重要贡献。通过LabVIEW实现的程序化逻辑，加上硬件的简单性，使得这个系统不仅为现有测试提供了新的可能性，也为创新的电化学方法论的发展打开了新的大门
2023-12-10 21:00:05
液晶显示薄膜恒温恒湿试验箱试验温度:持续时间不能试验的化学品系统组成需注意的几个问题，温湿度箱的选择，本机专门测试各种材料耐热、耐寒、耐干、耐湿的性能。本机可选择中文或英文液晶显示触控式屏幕画面
2023-12-07 14:27:01
GaN作为宽禁带III-V族化合物半导体最近被深入研究。为了实现GaN基器件的良好性能，GaN的处理技术至关重要。目前英思特已经尝试了许多GaN蚀刻方法，大部分GaN刻蚀是通过等离子体刻蚀来完成
2023-12-01 17:02:39259 
存储研究报告》（以下简称：《报告》）正式发布。《报告》首次系统梳理并深入分析了分布式融合存储的概念、技术架构和应用场景，为融合存储产业发展提供参考和指引。 中国电子技术标准化研究院领导表示，“数据成为重要的生产要素，数据
2023-11-30 16:25:01172 
目前，大多数III族氮化物的加工都是通过干法等离子体蚀刻完成的。干法蚀刻有几个缺点，包括产生离子诱导损伤和难以获得激光器所需的光滑蚀刻侧壁。干法蚀刻产生的侧壁典型均方根(rms)粗糙度约为50纳米
2023-11-24 14:10:30241 
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网站提供《工业控制系统及其安全性研究报告.pdf》资料免费下载
2023-11-16 14:29:13
0 蚀刻设备的结构及不同成分的蚀刻液都会对蚀刻因子或侧蚀度产生影响，或者用乐观的话来说，可以对其进行控制。采用某些添加剂可以降低侧蚀度。这些添加剂的化学成分一般属于商业秘密，各自的研制者是不向外界透露的。至于蚀刻设备的结构问题，后面的章节将专门讨论。
2023-11-14 15:23:10217 艾瑞咨询：2023年中国家用智能照明行业研究报告
2023-11-07 16:37:390 电阻器是电子电路中常见的被动元件，用于限制电流、调整电压和执行其他电阻性功能。在电阻器的制造中，有两种常见的类型：厚膜晶片电阻和薄膜晶片电阻。这两种类型的电阻器在结构、性能和应用方面都有一些显著的区别。本文将介绍厚膜晶片电阻和薄膜晶片电阻的区别，以帮助读者更好地理解它们的特性和用途。
2023-10-23 09:00:17840 
在精细印制电路制作过程中，喷淋蚀刻是影响产品质量合格率重要的工序之一。现有很多的文章对精细线路的蚀刻做了大量的研究，但是大多数都只停留在表象的研究中，并没有从本质上认识喷淋蚀刻中出现的问题。
2023-10-17 15:15:35164 
移动式恒温恒湿试验箱商品名称：商品规格：TH系列商品简述：移动式恒温恒湿试验箱现货急售，价格便宜，质量保证，全新机型内尺寸：宽1米+高1.6米*深1米；温度范围：-40~150度，如需咨询敬请随时
2023-10-17 11:15:20
蚀刻液的化学成分的组成：蚀刻液的化学组分不同，其蚀刻速率就不相同，蚀刻系数也不同。如普遍使用的酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常是&；碱性氯化铜蚀刻液系数可达3.5-4。而正处在开发阶段的以硝酸为主的蚀刻液可以达到几乎没有侧蚀问题，蚀刻后的导线侧壁接近垂直。
2023-10-16 15:04:35553 由于碳纤维表面没有催化活性,通常在镀银前要进行敏化、活化处理。传统的敏化活化工艺一般要用到氯化亚锡、氯化锂等试剂，这些试剂不仅价格昂贵，还会产生含有重金属离子的废液。
2023-10-12 16:56:46482 
GaN及相关合金可用于制造蓝色/绿色/紫外线发射器以及高温、高功率电子器件。由于 III 族氮化物的湿法化学蚀刻结果有限，因此人们投入了大量精力来开发干法蚀刻工艺。干法蚀刻开发一开始集中于台面结构，其中需要高蚀刻速率、各向异性轮廓、光滑侧壁和不同材料的同等蚀刻。
2023-10-07 15:43:56319 
香港上市公司ESG表现积极 但仍需持续改进 香港2023年9月20日 /美通社/ -- 方圆企业服务继2021年以来，于2023年9月19日，连续第三年发布ESG 研究报告。通过对上市公司ESG
2023-09-21 03:36:58265 
一站式PCBA智造厂家今天为大家讲讲pcb打样蚀刻工艺注意事项有哪些?PCB打样蚀刻工艺注意事项。PCB打样中，在铜箔部分预镀一层铅锡防腐层，保留在板外层，即电路的图形部分，然后是其余的铜箔被化学方法腐蚀，称为蚀刻。
2023-09-18 11:06:30669 好消息再次传来！ 统信UOS又双叒叕获得认可！ 第一新声发布 《2023年中国信创产业研究报告》 我们分别入选： 中国最佳信创厂商TOP50 中国最佳信创操作系统厂商 中国最佳信创厂商优秀
2023-09-13 17:02:17376 
要注意的是，蚀刻时的板子上面有两层铜。在外层蚀刻工艺中仅仅有一层铜是必须被全部蚀刻掉的，其余的将形成最终所需要的电路。这种类型的图形电镀,其特点是镀铜层仅存在于铅锡抗蚀层的下面。
2023-09-07 14:41:12474 
近日，中国信息通信研究院在“2023 SecGo云和软件安全大会”上发布了 《零信任发展研究报告（2023年）》 （以下简称“报告”），全面介绍了在数字化转型深化背景下，零信任如何解决企业面临的安全
2023-09-06 10:10:01488 
在印制板外层电路的加工工艺中，还有另外一种方法，就是用感光膜代替金属镀层做抗蚀层。这种方法非常近似于内层蚀刻工艺，可以参阅内层制作工艺中的蚀刻。
2023-09-06 09:36:57811 
BSP_CMSIS_V3.02.000SampleCodeStdDriverUSBD_HID_TransferKEIL
裡头的档案烧录进NANO130KE3BN晶片
并且想要使用内附的Window Tool观察资料的传输
但是我利用Visual C++ compile出Window
2023-08-24 06:13:50
氮化镓 (GaN) 可为便携式产品提供更小、更轻、更高效的桌面 AC-DC 电源。Keep Tops 氮化镓（GaN）是一种宽带隙半导体材料。 当用于电源时，GaN 比传统硅具有更高的效率、更小
2023-08-21 17:06:18
、化学、建材、研究所、大学等行业单位品管检测之用。-70℃可程式恒温恒湿试验箱主要技术参数：型号：TH-80/120/150/225/408/800/1000H（M、
2023-08-21 15:13:32
半导体蚀刻设备是半导体製造过程中使用的设备。 化学溶液通过将晶片浸入化学溶液（蚀刻剂）中来选择性地去除半导体晶片的特定层或区域，化学溶液溶解并去除晶片表面所需的材料。
2023-08-15 15:51:58319 PCB蚀刻工艺中的“水池效应”现象，通常发生在顶部，这种现象会导致大尺寸PCB整个板面具有不同的蚀刻质量。
2023-08-10 18:25:431013 佐思汽研发布了《2023年汽车车内通信及网络接口芯片行业研究报告》。 根据通信连接形态的不同，汽车通信应用分为无线通信和有线通信。
2023-08-02 10:56:431401 
预登记展会领取门票还可以获得由AIoT星图研究院出品2023行业报告之《蜂窝物联网系列之LTE Cat.1市场跟踪调研报告》、《中国光伏物联网产业分析报告》、《2023中国智慧工地行业市场研究报告
2023-07-31 11:14:32525 
刻蚀和蚀刻实质上是同一过程的不同称呼，常常用来描述在材料表面上进行化学或物理腐蚀以去除或改变材料的特定部分的过程。在半导体制造中，这个过程常常用于雕刻芯片上的细微结构。
2023-07-28 15:16:594140 自己的模板 研究 报告《 容、感、阻被动元器件市场报告》，如需领取报告，请关注公众号，后台回复 元器件 即可领取！ 声明 ： 本文由德赢Vwin官网
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2023-07-17 17:15:04246 
前不久，国家无线电监测中心与全球移动通信系统协会（GSMA）共同发布了关于未来宽带移动通信与频谱高效利用的合作研究报告。
2023-07-17 09:56:00976 
蚀刻是一种从材料上去除的过程。基片表面上的一种薄膜基片。当掩码层用于保护特定区域时在晶片表面，蚀刻的目的是“精确”移除未覆盖的材料戴着面具。
2023-07-14 11:13:32183 
、资产和人员智能互联的先进数字解决方案提供商，斑马技术公司（纳斯达克股票代码：ZBRA）今日发布2023年《汽车生态系统愿景研究报告》。报告结果表明，汽车制造商正面对着来自各方面的压力，他们需要满足消费者对整体制造过程的可持续性和透明度不
2023-07-12 13:09:55287 蚀刻是一种从材料上去除的过程。基片表面上的一种薄膜基片。当掩码层用于保护特定区域时在晶片表面，蚀刻的目的是“精确”移除未覆盖的材料戴着面具。
2023-07-12 09:26:03190 
年7月6日 作为致力于助力企业实现数据、资产和人员智能互联的先进数字解决方案提供商，斑马技术公司（纳斯达克股票代码：ZBRA）今日发布2023年《汽车生态系统愿景研究报告》。报告结果表明，汽车制造商正面对着来自各方面的压力，他们需要满足消费者对整体制造过
2023-07-07 16:07:24321 自己的模板 研究 报告《 虚拟人产业链及市场前景报告》，如需领取报告，请关注公众号，后台回复 虚拟人 即可领取！ 声明 ： 本文由德赢Vwin官网
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2023-07-03 17:25:02283 
随着集成电路互连线的宽度和间距接近3pm，铝和铝合金的等离子体蚀刻变得更有必要。为了防止蚀刻掩模下的横向蚀刻，我们需要一个侧壁钝化机制。尽管AlCl和AlBr都具有可观的蒸气压，但大多数铝蚀刻的研究
2023-06-27 13:24:11318 
CMOS和MEMS制造技术，允许相对于其他薄膜选择性地去除薄膜，在器件集成中一直具有很高的实用性。这种化学性质非常有用，但是当存在其他材料并且也已知在HF中蚀刻时，这就成了问题。由于器件的静摩擦、缓慢的蚀刻速率以及横向或分层膜的蚀刻速率降低，湿法化学也会有问题。
2023-06-26 13:32:441053 
氮化镓(GaN)是一种全新的使能技术，可实现更高的效率、显着减小系统尺寸、更轻和于应用中取得硅器件无法实现的性能。那么，为什么关于氮化镓半导体仍然有如此多的误解？事实又是怎样的呢？
关于氮化镓技术
2023-06-25 14:17:47
前言
橙果电子是一家专业的电源适配器，快充电源和氮化镓充电器的制造商，公司具有标准无尘生产车间，为客户进行一站式服务。充电头网拿到了橙果电子推出的一款2C1A氮化镓充电器，总输出功率为65W，单口
2023-06-16 14:05:50
国产化率认证报告（摘录2）
图3 国产化率认证报告（摘录3）
图4 国产化率认证报告（摘录4）
来自“中国赛宝实验室”，很权威
工业和信息化部电子第五研究所（中国赛宝实验室），又名
2023-06-15 16:56:01
通过SMT封装，GaNFast™ 氮化镓功率芯片实现氮化镓器件、驱动、控制和保护集成。这些GaNFast™功率芯片是一种易于使用的“数字输入、电源输出” (digital in, power out
2023-06-15 16:03:16
，在半桥拓扑结构中结合了频率、密度和效率优势。如有源钳位反激式、图腾柱PFC和LLC。随着从硬开关拓扑结构到软开关拓扑结构的改变，初级FET的一般损耗方程可以最小化，从而提升至10倍的高频率。
氮化镓功率芯片前所未有的性能表现，将成为第二次电力电子学革命的催化剂。
2023-06-15 15:53:16
200℃。
1972年，基于氮化镓材质的 LED 发光二极管才被发明出来（使用掺有镁的氮化镓），。这是里程碑式的历史事件。虽然最初的氮化镓 LED ，它的亮度还不足以商用，但这是人类第一次制备出能够发出蓝
2023-06-15 15:50:54
% 化学物及能源损耗，此外还能，再加上节省超过 50% 的包装材料，那氮化镓的环保优势，将远远大于传统慢速比低速硅材料。
2023-06-15 15:47:44
氮化镓，由镓（原子序数 31）和氮（原子序数 7）结合而来的化合物。它是拥有稳定六边形晶体结构的宽禁带半导体材料。禁带，是指电子从原子核轨道上脱离所需要的能量，氮化镓的禁带宽度为 3.4eV，是硅
2023-06-15 15:41:16
桥式拓扑结构中放大了氮化镓的频率、密度和效率优势，如主动有源钳位反激式（ACF）、图腾柱PFC 和 LLC（CrCM 工作模式）。随着硬开关拓扑结构向软开关拓扑结构的转变，初级 FET 的一般损耗方程可以被最小化。更新后的简单方程使效率在 10 倍的高频率下得到改善。
2023-06-15 15:35:02
更小：GaNFast™ 功率芯片，可实现比传统硅器件芯片 3 倍的充电速度，其尺寸和重量只有前者的一半，并且在能量节约方面，它最高能节约 40% 的能量。
更快：氮化镓电源 IC 的集成设计使其非常
2023-06-15 15:32:41
虽然低电压氮化镓功率芯片的学术研究，始于 2009 年左右的香港科技大学，但强大的高压氮化镓功率芯片平台的量产，则是由成立于 2014 年的纳微半导体最早进行研发的。纳微半导体的三位联合创始人
2023-06-15 15:28:08
氮化镓(GaN)功率芯片，将多种电力电子器件整合到一个氮化镓芯片上，能有效提高产品充电速度、效率、可靠性和成本效益。在很多案例中，氮化镓功率芯片，能令先进的电源转换拓扑结构，从学术概念和理论达到
2023-06-15 14:17:56
研究报告1.0版》，总计192页，分为技术篇、产业篇、评测篇、职业篇、风险篇、哲理篇、未来篇、团队篇等多个篇章，对AIGC产业的发展现状和趋势进行了详尽研究和分析
2023-06-09 10:32:36550 
步入式恒温恒湿试验房的用途:适用于塑胶、电子、食品、服装、车辆、金属、化学、建材、航天等多种行业的温湿变化产品可靠性检测。是指能同时施加温度、湿度应力的试验箱,由制冷系统、加热系统、控制系统、温度
2023-06-09 10:30:45
可程式恒温恒湿试验箱试验温度:持续时间不能试验的化学品系统组成需注意的几个问题，温湿度箱的选择，本机专门测试各种材料耐热、耐寒、耐干、耐湿的性能。本机可选择中文或英文液晶显示触控式屏幕画面，操作简单
2023-06-05 14:33:56
发展研究报告1.0版》，总计192页，分为技术篇、产业篇、评测篇、职业篇、风险篇、哲理篇、未来篇、团队篇等多个篇章，对AIGC产业的发展现状和趋势进行了详尽研究和分析。 以下为报告内容 受篇幅限制，以上仅为部分报告预览 后台回复【 AIG
2023-06-04 16:15:01503 
使用化学机械抛光(CMP)方法对碳化硅晶片进行了超精密抛光试验，探究了滴液速率、抛光头转 速、抛光压力、抛光时长及晶片吸附方式等工艺参数对晶片表面粗糙度的影响，并对工艺参数进行了优化，最终 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子级光滑碳化硅晶片。
2023-05-31 10:30:062215 
用于电动摩托 砷化镓+ Si混合可编程线性霍尔IC-GS302SA-3产品概述：GS302SA-3通过磁场强度的变化，输出等比例霍尔电势，从而感知电流及线性位移，广泛用于电流传感器、线性马达等。由于
2023-05-31 10:02:47
等离子体蚀刻是氮化镓器件制造的一个必要步骤，然而，载体材料的选择可能会实质上改变蚀刻特性。在小型单个芯片上制造氮化镓（GaN）设备，通常会导致晶圆的成本上升。在本研究中，英思特通过铝基和硅基载流子来研究蚀刻过程中蚀刻速率、选择性、形貌和表面钝化的影响。
2023-05-30 15:19:54452 
纳米片工艺流程中最关键的蚀刻步骤包括虚拟栅极蚀刻、各向异性柱蚀刻、各向同性间隔蚀刻和通道释放步骤。通过硅和 SiGe 交替层的剖面蚀刻是各向异性的，并使用氟化化学。优化内部间隔蚀刻（压痕）和通道释放步骤，以极低的硅损失去除 SiGe。
2023-05-30 15:14:111071 
自己的模板 研究 报告《 汽车电子2023车载充电机(OBC)市场分析》，如需领取报告，请关注公众号，后台回复 OBC 即可领取！ 声明 ： 本文由德赢Vwin官网
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2023-05-29 17:55:02896 
过去利用碱氢氧化物水溶液研究了硅的取向依赖蚀刻，这是制造硅中微结构的一种非常有用的技术。以10M氢氧化钾（KOH）为蚀刻剂，研究了单晶硅球和晶片的各向异性蚀刻过程，测量了沿多个矢量方向的蚀刻速率，用单晶球发现了最慢的蚀刻面。英思特利用这些数据，提出了一种预测不同方向表面的倾角的方法
2023-05-29 09:42:40618 
微孔利用光和物质的相互作用来获得独特的性质，特别是，当用紫外光、可见光或近红外光在其表面等离子体极化频率附近照射时，金属微孔结构表现出强烈的共振。然而，用于制造微孔的技术是耗时的，并且需要昂贵的设备和专业人员。因此，英思特开发了一种通过湿化学蚀刻硅衬底来制造微孔的方法。
2023-05-25 13:47:51846 
蚀刻可能是湿制程阶段最复杂的工艺，因为有很多因素会影响蚀刻速率。如果不保持这些因素的稳定，蚀刻率就会变化，因而影响产品质量。如果希望利用一种自动化方法来维护蚀刻化学，以下是你需要理解的基本概念。
2023-05-19 10:27:31575 
一般适用于多层印制板的外层电路图形的制作或微波印制板阴板法直接蚀刻图形的制作抗蚀刻 图形电镀之金属抗蚀层如镀覆金、镍、锡铅合金
2023-05-18 16:23:484917 抛光硅晶片是通过各种机械和化学工艺制备的。首先，硅单晶锭被切成圆盘（晶片），然后是一个称为拍打的扁平过程，包括使用磨料清洗晶片。通过蚀刻消除了以往成形过程中引起的机械损伤，蚀刻之后是各种单元操作，如抛光和清洗之前，它已经准备好为设备制造。
2023-05-16 10:03:00584 
在硅基光伏产业链中，硅晶片的制造是最基本的步骤。金刚石切片是主要的硅片切片技术，采用高速线性摩擦将硅切割成薄片。在硅片切片过程中，由于金刚石线和硅片的反复摩擦，硅片表面发生了大量的脆性损伤和塑性损伤。
2023-05-15 10:49:38489 
自己的模板 研究 报告《 工业视觉产业与工业图像传感器技术趋势分析》，如需领取报告，请关注公众号，后台回复 工业 即可领取！ 声明 ： 本文由德赢Vwin官网
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2023-05-11 20:16:37145 减薄晶片有四种主要方法，(1)机械研磨，(2)化学机械平面化，(3)湿法蚀刻(4)等离子体干法化学蚀刻(ADP DCE)。四种晶片减薄技术由两组组成：研磨和蚀刻。为了研磨晶片，将砂轮和水或化学浆液结合起来与晶片反应并使之变薄，而蚀刻则使用化学物质来使基板变薄。
2023-05-09 10:20:06979 [技术领域] 本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体地说是一种酸性化学品供应控制系 统。 由于半导体行业中芯片生产线的工作对象是硅晶片，而能在硅晶片上蚀刻图形 以及清洗硅晶片上的杂质、微粒子的化学
2023-04-20 13:57:0074 SW-209-PIN砷化镓匹配 GaAs SPST 开关 DC - 3.0 GHz MACOM 的 SW-209-PIN 是一款射频开关
2023-04-18 15:19:22
MA4AGSW2AlGaAs 反射式MA4AGSW2 是一种铝-镓-砷、单刀双掷 (SPDT)、PIN 二极管开关。该开关采用增强型 AlGaAs 阳极，采用 MACOM
2023-04-18 12:00:04
MA4AGSW1MA4AGSW1AlGaAs 反射式MACOM 的 MA4AGSW1 是一种铝-镓-砷、单刀、单掷 (SPST)、PIN 二极管开关。该开关采用增强型 Al-GaAs 阳极，采用
2023-04-18 11:06:14
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2023-04-12 15:10:02390 干法蚀刻与湿法蚀刻之间的争论是微电子制造商在项目开始时必须解决的首要问题之一。必须考虑许多因素来决定应在晶圆上使用哪种类型的蚀刻剂来制作电子芯片，是液体（湿法蚀刻）还是气体（干法蚀刻）
2023-04-12 14:54:331004 计算机类竞赛研究报告》（下简称《研究报告》），这是全国性大学生计算机类竞赛研究报告的首次发布。广和通历年重点参与的赛事：榜单内赛事全国大学生嵌入式芯片与系统设计竞赛、全国大学生物联网设计竞赛均被研究报告专家工作组选取作为计算机类竞赛研究报告数据采集覆盖的计算机类竞赛项目之一。
2023-04-10 10:16:15
济南2023年3月31日 /美通社/ -- 近日，国际数据公司（IDC）发布了《中国工业边缘市场分析》研究报告（以下简称《报告》）。浪潮云洲凭借云边缘一体化机器视觉等特色解决方案布局，入选工业边缘
2023-04-01 08:03:30540 清洗过程在半导体制造过程中，在技术上和经济上都起着重要的作用。超薄晶片表面必须实现无颗粒、无金属杂质、无有机、无水分、无天然氧化物、无表面微粗糙度、无充电、无氢。硅片表面的主要容器可分为颗粒、金属杂质和有机物三类。
2023-03-31 10:56:19314 
印刷线路板从光板到显出线路图形的过程是一个比较复杂的物理和化学反应的过程，本文就对其最后的一步--蚀刻进行解析。目前,印刷电路板(PCB)加工的典型工艺采用"图形电镀法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886 研究表明，半导体的物理特性会根据其结构而变化，因此半导体晶圆在组装成芯片之前被蚀刻成可调整其电气和光学特性以及连接性的结构。
2023-03-28 09:58:34251 
调温调湿箱全名“恒温恒湿试验箱”是航空、汽车、家电、科研等领域必备的测试设备，用于测试和确定电工、电子及其他产品及材料进行高温、低温、湿热度或恒定试验的温度环境变化后的参数及性能，它主要用于根据试验
2023-03-28 09:02:36
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2023-03-27 20:25:04478
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