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关于臭氧化去离子水去除最终抛光晶片上的颗粒的研究报告

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蓝宝石在化学机械抛光过程中的材料去除机理

在化学腐蚀点处的浓度越高,腐蚀速率越快。在抛光过程中抛光液持续流动,我们假设在腐蚀点处的浓度可以保持初始时的浓度,腐蚀率以最快的速度发生,则抛光液不同的PH值对应一个腐蚀率,由此可见,去除速率与PH值有关,PH越高,速率越快。
2023-06-02 15:24:06347

臭氧清洗系统的制备及其在硅晶片清洗中的应用

在半导体和太阳能电池制造过程中,清洗晶圆的技术的提升是为了制造高质量产品。目前已经有多种湿法清洗晶圆的技术,如离子水清洗、超声波清洗、低压等离子和机械方法。由于湿法工艺一般需要使用含有有害化学物质的酸和碱溶液,会产生大量废水,因此存在废物处理成本和环境监管等问题。
2023-06-02 13:33:211020

碳化硅晶片的超精密抛光工艺

使用化学机械抛光(CMP)方法对碳化硅晶片进行了超精密抛光试验,探究了滴液速率、抛光头转 速、抛光压力、抛光时长及晶片吸附方式等工艺参数对晶片表面粗糙度的影响,并对工艺参数进行了优化,最终 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子级光滑碳化硅晶片
2023-05-31 10:30:062215

硅在氢氧化钠和四甲基氢氧化铵中的温度依赖性蚀刻

过去利用碱氢氧化物水溶液研究了硅的取向依赖蚀刻,这是制造硅中微结构的一种非常有用的技术。以10M氢氧化钾(KOH)为蚀刻剂,研究了单晶硅球和晶片的各向异性蚀刻过程,测量了沿多个矢量方向的蚀刻速率,用单晶球发现了最慢的蚀刻面。英思特利用这些数据,提出了一种预测不同方向表面的倾角的方法
2023-05-29 09:42:40618

PCBA线路板清洗设备的结构、功能和清洗方式

全自动水清洗机工作方式:配比后的清洗液通过清洗腔内喷嘴以一定的压力和流量喷射在待洗的PCBA上,以软化和冲刷PCBA表面的松香等助焊剂残留液,然后通过去离子水对PCBA漂洗,最后对PCBA冲洗去除
2023-05-25 11:48:341460

KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用

上海伯东代理美国 KRi 考夫曼离子源适用于安装在 MBE 分子束外延, 溅射和蒸发系统, PLD 脉冲激光系统等, 在沉积前用离子轰击表面, 进行预清洁 Pre-clean 的工艺, 对基材表面有机物清洗, 金属氧化物的去除等, 提高沉积薄膜附着力, 纯度, 应力, 工艺效率等!
2023-05-25 10:10:31378

综述:二维材料Bi₂O₂Se的制备与光学表征研究进展

在厚度上分布更为均匀。当在溶液1中使用4种不同溶剂:去离子水(DI)、加HNO₃的DI、加甘露醇的DI以及加乙二醇的DI
2023-05-22 15:28:59474

北京林业大学:研究多功能MXene导电两性离子水凝胶应用于柔性可穿戴传感器阵列

传感新品 【北京林业大学:研究多功能MXene导电两性离子水凝胶应用于柔性可穿戴传感器阵列】 近年来,受人类皮肤的启发,具有可拉伸性、导电性、灵活性和触觉感应能力的柔性电子传感器因其在电子皮肤
2023-05-19 08:45:11751

晶片的酸基蚀刻:传质和动力学效应

抛光晶片是通过各种机械和化学工艺制备的。首先,硅单晶锭被切成圆盘(晶片),然后是一个称为拍打的扁平过程,包括使用磨料清洗晶片。通过蚀刻消除了以往成形过程中引起的机械损伤,蚀刻之后是各种单元操作,如抛光和清洗之前,它已经准备好为设备制造。
2023-05-16 10:03:00584

开关电源如何去除mos管开通时采样电阻的纹波?

开关电源如何去除mos管开通时采样电阻的纹波?
2023-05-09 14:53:06

功率放大器在磁性微纳米颗粒微流体操控研究中的应用

实验名称: 功率放大器在磁性微纳米颗粒微流体操控研究中的应用 实验内容: 设计一套精准的磁场操控平台,并制备两种不同类型磁性颗粒研究了均匀型磁性颗粒在磁场下的成链的机理,给出成链模型,通过实验研究
2023-05-08 11:35:01265

如何让自动抛光设备达到理想的抛光效果

一、自动抛光机的抛光效果因素自动抛光机的抛光效果取决于多个因素,除了自动抛光机本身的质量以外,还包括使用工艺、选用什么样的抛光辅料,要抛光物件材质,操作者的经验技术等,在条件都合适的情况下,自动
2023-05-05 09:57:03535

颗粒人造石墨负极的制备及性能研究

这一问题,从表面形貌、粒度分布、首次库伦效率和充放电比容量、循环测试几个方面,对单颗粒人造石墨的颗粒大小对储能特性的影响进行研究,所得研究成果具有一定的理论和实践价值。
2023-04-23 14:31:001506

用于制造半导体晶体的脱气室和使用其的脱气工艺

本文涉及一种用于制造半导体元件的滴气室及利用其的滴气工艺;晶片内侧加载的腔室,安装在舱内侧,包括通过加热晶片激活晶片上残存杂质的加热手段、通过将晶片上激活的杂质吸入真空以使晶片上激活的杂质排出外部的真空吸入部、以及通过向通过加热手段加热的舱提供氢气以去除晶片上金属氧化膜的氢气供给部
2023-04-23 10:22:02337

PCB热设计之x和z间隙对Tj的影响

不可避免地影响安装在PCB的MOSFET器件的温度。  为了研究PCB周围空气间隙的影响,我们重新操作了之前的模型,但是这次的x和z间隙分别为5mm和10mm。参见图8所示。  图8:PCB板周围的间隙
2023-04-21 15:00:28

从半导体原材料到抛光晶片的基本工艺流程

 半导体材料和半导体器件在世界电子工业发展扮演的角色我们前几天已经聊过了。而往往身为使用者的我们都不太会去关注它成品之前的过程,接下来我们就聊聊其工艺流程。今天我们来聊聊如何从原材料到抛光晶片的那些事儿。
2023-04-14 14:37:502034

通过物联网网关实现抛光设备数据采集远程监控

抛光工作在电镀、涂装、阳极氧化等表面处理过程中发挥重要作用。早期的抛光工作由工人手动操作,通过经验和观察进行打磨抛光。此种作业方式既损害环境和身体健康,也具备较大的安全风险和人力成本,逐渐被自动抛光
2023-04-14 10:21:59338

超精密抛光技术,不简单!

是世界上最圆的球了。我们通过短片了解一下。1、研磨与抛光的区别研磨:利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒,通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工。
2023-04-13 14:24:341685

研究报告丨汽车MCU产业链分析报告

自己的模板 研究 报告《 汽车MCU产业链分析报告》,如需领取报告,请关注公众号,后台回复   MCU  即可领取! 声明 : 本文由德赢Vwin官网 原创 ,转载请注明以上来源。如需入群交流 ,请添加
2023-04-12 15:10:02390

【新闻】全国普通高校大学生计算机类竞赛研究报告正式发布

全国普通高校大学生计算机类竞赛研究报告链接:https://mp.weixin.qq.com/s/bdcp-wGqvXY_8DPzn8dhKw各高校在计算机类竞赛中的表现情况是评估相关高校计算机
2023-04-10 10:16:15

臭氧变压器的选购

臭氧变压器是一种利用电磁感应原理,把交流电能转变为不同电压、电流等参数的电力设备。当臭氧变压器内部出现严重过载、短路、绝缘损坏等故障时,绝缘材料受到高温或电弧作用,受热使变压器内部的压力急剧上升,然后导致变压器损坏。
2023-04-03 13:05:1578

浪潮云洲入选IDC《中国工业边缘市场分析》研究报告

济南2023年3月31日 /美通社/ -- 近日,国际数据公司(IDC)发布了《中国工业边缘市场分析》研究报告(以下简称《报告》)。浪潮云洲凭借云边缘一体化机器视觉等特色解决方案布局,入选工业边缘
2023-04-01 08:03:30540

湿清洗过程中硅晶片表面颗粒去除

在整个晶圆加工过程中,仔细维护清洁的晶圆表面对于在半导体器件制造中获得高产量至关重要。因此,湿式化学清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中应用最重复的处理步骤。
2023-03-30 10:00:091940

离子电池负极衰减机理研究进展

碳材料,尤其石墨材料,是锂离子电池中应用最广泛的负极材料。 虽然其他负极材料,如合金类材料、硬碳材料等,也在被广泛研究,但研究重点主要集中于活性材料的形貌控制和性能改进,关于其容量衰减的机理分析较少
2023-03-27 10:40:52538

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