一、超声波清洗机的4大清洗特点
1. 高效性：超声波清洗机利用高频振动产生的微小气泡在物体表面进行冲击和剥离，从而实现对物体表面的高效清洗。相比传统的手工清洗和机械清洗，超声波清洗机具有更高的清洗
2024-03-04 09:45:59
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良好的环境中进行，并遵循操作规程，清洗后要进行干燥处理。 2.超声波清洗：利用超声波振动产生的微小气泡和流体击打的功效，可以将PCB表面的污垢有效去除。 3.气流清洗：利用高压气体吹扫的方式将表面的污垢吹除，如氮气或惰性气体，清洗
2024-02-28 14:16:14124 级的颗粒。与传统的湿法和干法清洗方法相比，二氧化碳雪清洗具有以下优点：高效清洗：二氧化碳雪清洗能够通过冲击和剥离的原理彻底去除晶粒表面的微粒，有效提高清洗效果。无残
2024-02-27 12:14:4693 
PCB（Printed Circuit Board，印刷电路板）焊接后需要进行清洗，以去除残留的焊膏、通孔内的杂质、金属离子等，确保电路板表面干净，并提高电路板的可靠性和性能。以下是一般的 PCB
2024-02-27 11:04:26141 
晶圆表面的洁净度对于后续半导体工艺以及产品合格率会造成一定程度的影响，最常见的主要污染包括金属、有机物及颗粒状粒子的残留，而污染分析的结果可用以反应某一工艺步骤、特定机台或是整体工艺中所遭遇的污染程度与种类。
2024-02-23 17:34:23320 
根据清洗介质的不同，目前半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺路线
2024-01-12 23:14:23769 
智程半导体自2009年起致力于半导体湿法工艺设备研究、生产与销售事业，10余载研发历程，使得其已成为全球顶尖的半导体湿法设备供应商。业务范围包括清洗、去胶、湿法刻蚀、电镀、涂胶显影、金属剥离等多种设备，广泛应用于各种高尖端产品领域。
2024-01-12 14:55:23636 较高，极易吸附杂质粒子，从而导致硅片表面被污染且性能变差，比如颗粒杂质会导致硅片的介电强度降低，金属离子会增大光伏电池P-N结的反向漏电流和降低少子的寿命等。当前越来越多的新材料被广泛
2024-01-11 11:29:04348 
产品简介：OPC-2300液体颗粒计数器是普洛帝采用颗粒计数器提供者英国普洛帝分析测试集团公司的核心技术，严格按照英国普洛帝第八代双激光窄光颗粒检测技术，研制的一款在线液体颗粒计数器检测设备，集结
2024-01-08 11:53:40
产品简介：OPC-2300液体颗粒计数器是普洛帝采用颗粒计数器提供者英国普洛帝分析测试集团公司的核心技术，严格按照英国普洛帝第八代双激光窄光颗粒检测技术，研制的一款在线液体颗粒计数器检测设备，集结
2024-01-08 11:19:28
产品简介：OPC-2300液体颗粒计数器是普洛帝采用颗粒计数器提供者英国普洛帝分析测试集团公司的核心技术，严格按照英国普洛帝第八代双激光窄光颗粒检测技术，研制的一款在线液体颗粒计数器检测设备，集结
2024-01-08 11:16:06
产品简介：OPC-2300液体颗粒计数器是普洛帝采用颗粒计数器提供者英国普洛帝分析测试集团公司的核心技术，严格按照英国普洛帝第八代双激光窄光颗粒检测技术，研制的一款在线液体颗粒计数器检测设备，集结
2024-01-08 11:13:11
产品简介：OPC-2300液体颗粒计数器是普洛帝采用颗粒计数器提供者英国普洛帝分析测试集团公司的核心技术，严格按照英国普洛帝第八代双激光窄光颗粒检测技术，研制的一款在线液体颗粒计数器检测
2024-01-08 11:02:19
激光清洗是一种新型的清洗方式，它利用激光的能量来清除物体表面的污垢、尘埃和附着物。相比传统的清洗方式，激光清洗具有更高的清洗效率和更低的成本，同时对物体表面不会造成损伤，因此被广泛应用于各种领域
2024-01-02 18:33:33302 
芯片制造中的各道工序极为精密，那么我们是如何保持工艺中无污染的呢？
2023-12-26 17:01:27235 制造过程中，清洗是一个必不可少的环节。这是因为半导体材料表面往往存在杂质和污染物，这些杂质和污染物会严重影响半导体的性能和可靠性。半导体清洗机通过采用先进的清洗技术，如超声波清洗、化学清洗等，能够有效地去除半导体表
2023-12-26 13:51:35255 
为了保证PCBA的高可靠性、电器性能稳定性和使用的寿命，提升PCBA组件质量及成品率，避免污染物污染及因此产生的电迁移，电化学腐蚀而造成电路失效。需要对PCBA焊接工艺后的锡膏残留、助焊剂残留、油污、灰尘、焊盘氧化层、手印、有机污染物及Particle等进行清洗。
2023-12-24 11:22:08173 
超声波清洗机用于实验室清洗玻璃器皿、烧杯试管等。与人工清洗相比，超声波清洗机具有批量清洗等独特优势，可以清洗烧杯试管内表面的污垢，也可用于混合提取等应用，因此在实验室中得到广泛应用。因此，它也被称为实验室超声波清洗机。
2023-12-24 11:01:29622 
清理。无铅锡膏在焊接工艺完后，多多少少都会有残留杂物，而残留杂物有好几种：a、颗粒性污染物易造成电短路；b、极性玷污物也会造成介质击穿、漏电和电子元件电路腐蚀等；c
2023-12-12 16:33:34255 
半导体制造业依赖复杂而精确的工艺来制造我们需要的电子元件。其中一个过程是晶圆清洗，这个是去除硅晶圆表面不需要的颗粒或残留物的过程，否则可能会损害产品质量或可靠性。RCA清洗技术能有效去除硅晶圆表面的有机和无机污染物，是一项标准的晶圆清洗工艺。
2023-12-07 13:19:14235 随着技术的不断变化和器件尺寸的不断缩小，清洁过程变得越来越复杂。每次清洗不仅要对晶圆进行清洗，所使用的机器和设备也必须进行清洗。晶圆污染物的范围包括直径范围为0.1至20微米的颗粒、有机和无机污染物以及杂质。
2023-12-06 17:19:58562 
激光清洗机 激光除锈 除油 激光清洗设备基本介绍 所谓激光清洗技术是指利用高能激光束照射工件表面，使表面的污物、锈斑或涂层发生瞬间蒸发或剥离，高速有效地清除清洁对象表面附着物或表面涂层
2023-12-06 10:58:54
光模块接口受到污染可能导致设备震荡告警。技术人员需严格按照操作规程规范操作，同时保持清洁环境，使用防尘塞和手套，定期清洁模块。避免使用有颗粒物的物品擦拭，确保光纤口干净无尘。
2023-11-27 14:28:03129 湿法刻蚀由于成本低、操作简单和一些特殊应用，所以它依旧普遍。
2023-11-27 10:20:17452 
背景 András Deák博士的研究重点是了解分子如何相互作用并附着在纳米颗粒表面背后的物理学。许多应用依赖于以预定方式附着在纳米颗粒表面的引入分子。然而，如果纳米颗粒已经有分子附着在其表面，则不
2023-11-15 10:33:52174 
在PCBA生产过程中，锡膏和助焊剂会产生残留物质，残留物中包含的有机酸和电离子，前者易腐蚀PCBA，后者会造成焊盘间短路故障。且近年来，用户对产品的清洁度要求越来越严格，PCBA清洗工艺逐渐被电子
2023-11-10 15:00:14346 
助焊剂活跃，化学清洗行动开始，水溶性助焊剂和免洗型助焊剂都会发生同样的清洗行动，只不过温度稍微不同。将金属氧化物和某些污染从即将结合的金属和焊锡颗粒上清除。好的冶金学上的锡焊点要求“清洁”的表面。
2023-11-03 15:13:06204 水清洗技术是今后清洗技术的发展方向，须设置纯清水源和排放水处理车间。它以水作为清洗介质，并在水中添加表面活性剂、助剂、缓蚀剂、螯合剂等形成一系列以水为基的清洗剂。可以除去水溶剂和非极性污染物。
2023-11-02 15:01:44186 高效硅太阳能电池的加工在很大程度上取决于高几何质量和较低污染的硅晶片的可用性。在晶圆加工结束时，有必要去除晶圆表面的潜在污染物，例如有机物、金属和颗粒。当前的工业晶圆加工过程包括两个清洁步骤。第一个
2023-11-01 17:05:58135 
8gu盘闪存颗粒坏了 可以自己换16g或者更大的闪存颗粒吗
2023-11-01 06:47:37
锐族手持式激光除锈机具有无研磨、非接触特点，不但可以用来清洗有机的污染物，也可以用来清洗无机物，包括金属的轻度锈蚀、金属微粒、灰尘等，应用功效包括：除锈、脱漆、去油污、文物修复、除胶、去涂层、去镀层
2023-10-31 10:39:49
激光清洗技术是激光技术在工程领域的一种成功应用，其基本原理是利用激光能量密度高的特点，使激光与工件基底上附着的污染物相互作用，以瞬间受热膨胀、熔化、气体挥发等形式与工件基底分离。激光清洗技术具有高效
2023-10-29 08:07:49883 
电阻器是电子电路中常见的被动元件，用于限制电流、调整电压和执行其他电阻性功能。在电阻器的制造中，有两种常见的类型：厚膜晶片电阻和薄膜晶片电阻。这两种类型的电阻器在结构、性能和应用方面都有一些显著的区别。本文将介绍厚膜晶片电阻和薄膜晶片电阻的区别，以帮助读者更好地理解它们的特性和用途。
2023-10-23 09:00:17840 
PCB板子清洗是在制造或组装完PCB后对其进行清洗的过程。那么我们为什么要进行清洗呢？随着捷多邦小编的步伐一起了解吧~ 清洗的目的是去除PCB表面的污垢、残留的焊膏、通孔内的碎片等，以确保PCB
2023-10-16 10:22:52215 FPC电镀的前处理 柔性印制板FPC经过涂覆盖层工艺后露出的铜导体表面可能会有胶黏剂或油墨污染，也还会有因高温工艺产生的氧化、变色，要想获得附着力良好的紧密镀层必须把导体表面的污染和氧化层去除，使导体表面清洁。
2023-10-12 15:18:24342 随着表面贴装技术的不断发展，越来越多的人开始接触这个行业。当我们购买锡膏时，焊锡厂家一般都会问要几号粉的锡膏。这是因为锡膏颗粒的大小对焊接有很大的影响，不同颗粒的大小有不同的焊接效果。今天
2023-09-20 16:46:04774 
激光除锈机 激光清洗锈蚀的原理 激光清洗锈蚀的原理是利用高频高能激光脉冲照射工件表面，使表面的锈层或涂层发生瞬间蒸发或剥离，从而高速有效地清除金属表面附着物或表面涂层。
2023-09-15 09:56:53
VGT-1307FH 红外窗口超声波清洗机为手动式超声波清洗机，用于光学件（红外镜片，尤以直径为 20-25 的窗口片为主）等零部件的超声波清洗；设备共有 13 个功能槽，配置有抛动系统、循环过滤
2023-09-13 16:28:46
0 多功能超声波清洗振动棒操作简单直观，外壳简约时尚，多功能超声波清洗振动棒使清洗的物品28KHZ频率的清洗，克服了清洗的死角。多功能超声波清洗振动棒穿透力较强，宜清洗表面形状复杂或有盲孔的工件
2023-09-12 16:06:09247 
工业清洗用超声波振动棒具有高频率、高振幅、高能量密度等特点，可以快速而彻底地清洗各种物体表面；清洗各种难以清洗的物体，如微小孔隙、细小缝隙等。工业清洗用超声波振动棒在清洗时不需要加热，因此可以
2023-09-11 14:45:57261 
不同的微电子工艺需要非常干净的表面以防止颗粒污染。其中，晶圆直接键合对颗粒清洁度的要求非常严格。直接晶圆键合包括通过简单地将两种材料的光滑且干净的表面接触来将两种材料连接在一起（图1）。在室温和压力下，两种材料表面的分子/原子之间形成的范德华力会产生粘附力。
2023-09-08 10:30:18188 
半导体晶圆清洗设备市场-概况 半导体晶圆清洗设备用于去除晶圆表面的颗粒、污染物和其他杂质。清洁后的表面有助于提高半导体器件的产量和性能。市场上有各种类型的半导体晶圆清洗设备。一些流行的设备类型包括
2023-08-22 15:08:001225 
缸体超声波清洗棒采用超声波清洗，具有清洗速度快、清洗效果好、对工件无损伤、降低劳动强度、节约成本等优点。缸体超声波清洗棒对附着在汽车发动机缸体表面的机油、灰尘和颗粒杂质通过超声波处理从金属表面分离
2023-08-18 11:48:07445 
超声波清洗棒放入任何管、罐、槽等物体中，就可以在其中产生超声波，因而非常适合。小型超声波清洗棒不会对材料和零件造成损伤，也不会改变零件表面的几何形状，小型超声波清洗棒是一种安全的清洗方式。 小型超声波清洗棒可用
2023-08-17 22:40:43274 
电路板沾污物的危害：颗粒性污染物——电短路。极性沾污物—介质击穿、漏电、元件/电路腐蚀。非极性沾污—影响外观、白色粉点、粘附灰尘、电接触不良。线路板的清洗方式： 普通清洗主要使用单个清洗槽，需要清洗的PCB放在清洗剂液体里浸泡清洗。
2023-08-17 15:29:371344 
28KHz单频清洗模式,40KHz单频清洗模式和28KHz/40KHz自动切换频率的双频清洗模式. 智能型双频率超声波清洗发生器电源在理论上双频切换的工作方式能够有效地消除驻波的影响,高频超声波可以深入清洗物体缝隙中的污染物,低频超声波可以清洗物体表面的污染物
2023-08-15 18:09:17264 
随着晶体管尺寸的不断微缩，晶圆制造工艺日益复杂，对半导体湿法清洗技术的要求也越来越高。
2023-08-01 10:01:561639 
完全可以计算可得的工作，所以很多时候为了安全性，设备清洗的不是那么很彻底，其次清洗的废液有污染性，需要大量资金投入进行废水处理。
2023-07-31 16:03:57479 
手持式连续激光清洗机是表面清理的高科技产品，易于安装、操控和实现自动化。操作简单，接通电，打开设备，即可进行无化学试剂、无介质、无尘、无水的清洗，可自动对焦，贴合曲面清洗，清洗表面洁净度高等优势，能够清洗物件表面树脂、油污、污渍、污垢、锈蚀、涂层、镀层、油漆。
2023-07-25 14:10:31
“痛点”根源，并提出合理可行的解决方案。 展会信息 展会时间：6月29日-7月1日 展会地点：上海新国际博览中心 华林科纳展位：E4馆 E4155 湿法解决方案 湿法清洗: Wafer Clean
2023-07-04 17:01:30251 
手持激光清洗机 金属除锈除漆除氧化层 工业级激光清洗机工作原理 所谓激光清洗是指利用高能激光束照射工件表面，使表面的污物、锈斑或涂层发生瞬间蒸发或剥离，高速有效地清除清洁对象
2023-07-03 10:58:40
手持式激光清洗机可移动便携式工业激光清洗机 激光清洗除锈设备工作原理 所谓激光清洗除锈是指利用高能激光束照射工件表面，使表面的污物、锈斑或涂层发生瞬间蒸发或剥离，高速有效地清除
2023-07-03 10:46:30
激光清洗机除锈机1500W连续式大功率激光清洗设备 激光清洗原理 激光清洗是指利用高能激光束照射工件表面，使表面的污物、锈斑或涂层发生瞬间蒸发或剥离，高速有效地清除
2023-07-03 10:33:28
工件表面，在激光能量聚集下，光束辐照在表面的能量击碎污染层，使污物瞬间剥离基材，恢复材料的本来面目，整个过程都是物理机械的，不会产生新的物质和污染。激光除锈技术是目前
2023-07-03 10:28:10
扬尘在线监测系统在污染治理中的主要作用如下: 1. 实时监测扬尘状态:可以实时监测空气中的颗粒物浓度,包括PM2.5和PM10等,为采取扬尘治理措施提供实时数据支持。 2. 预警和预报扬尘事件:根据
2023-06-14 10:57:43214 符合用户对产品清洁度的标准。因此，对PCBA板进行清洗是很有必要的。 PCBA生产加工污染物有哪些 污染物的界定为所有使PCBA的化学、物理或电气性能减少到不达标水准表面堆积物、杂物、夹渣及其被吸附物。主要有以下几个方面： 1、组成PCBA的电子
2023-06-13 15:30:281689 
焊接是组装工艺中的关键工艺流程之一。pcba电路板上面的污染物质来源于：焊接后助焊剂残余物的残留；组装中引进的导热硅脂、硅油；以及手出汗、大气浮尘、纤维、金属颗粒等等这些。 污染物的不良影响及危害性
2023-06-09 13:43:45847 
湿态发尘量、擦拭材料、防静电无尘布、洁净室擦拭布、清洁擦拭布清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、擦拭布、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国
2023-06-09 11:12:57227 
清洗剂液体颗粒计数器. 采用英国普洛帝核心技 术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精 密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、 超纯水、电子产品、平板玻璃
2023-06-09 11:12:17252 
棉签湿态发尘量、擦拭材料、防静电无尘布、洁净室擦拭布、清洁擦拭布、清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国普洛
2023-06-08 15:56:10
PMT-2清洗剂液体颗粒计数器，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃
2023-06-08 15:50:31
电化学清洗及电抛光和超声波清洗方法。不仅需要拆卸镀膜机内零件，耗费大量时间精力，同时拆装过程也有不可避免的污染，而且需要消耗一定的清洗材料，尤其是清洗体积大的物件时，及其不便。
2023-06-08 14:35:37542 
System（美国康宁 晶片表面形态测量系统） 行业简称：平面度测量仪 2产品特性 Tropel®FlatMaster® 测量设备40年来持续为半导体晶圆制造
2023-06-07 17:32:291535 
、质量轻的零部件通常需夹具固定或放在篮子里进行;零部件材料及表面标识等须与清洗剂材料兼容;特殊零部件需考虑能否承受清洗或可否清洗干净,例如低清洗空间的SMD(TSOPS、BGA、QFN)水清洗工艺就是一个考验,PCBA上如果有惧水元器件(如电位器)则考
2023-06-06 14:58:57906 
晶圆表面的洁净度对于后续半导体工艺以及产品合格率会造成一定程度的影响，最常见的主要污染包括金属、有机物及颗粒状粒子的残留，而污染分析的结果可用以反应某一工艺步骤、特定机台或是整体工艺中所遭遇的污染
2023-06-06 10:29:151093 
随着半导体科技的发展，在固态微电子器件制造中，人们对清洁基底表面越来越重视。湿法清洗一般使用无机酸、碱和氧化剂，以达到去除光阻剂、颗粒、轻有机物、金属污染物以及硅片表面上的天然氧化物的目的。然而，随着硅电路和器件结构规模的不断减小，英思特仍在专注于探索有效可靠的清洁方法以实现更好的清洁晶圆表面。
2023-06-05 17:18:50437 
硅的碱性刻蚀液：氢氧化钾、氢氧化氨或四甲基羟胺（TMAH）溶液，晶片加工中，会用到强碱作表面腐蚀或减薄，器件生产中，则倾向于弱碱，如SC1清洗晶片或多晶硅表面颗粒，一部分机理是SC1中的NH4OH
2023-06-05 15:10:011597 在半导体和太阳能电池制造过程中，清洗晶圆的技术的提升是为了制造高质量产品。目前已经有多种湿法清洗晶圆的技术，如离子水清洗、超声波清洗、低压等离子和机械方法。由于湿法工艺一般需要使用含有有害化学物质的酸和碱溶液，会产生大量废水，因此存在废物处理成本和环境监管等问题。
2023-06-02 13:33:211020 
使用化学机械抛光(CMP)方法对碳化硅晶片进行了超精密抛光试验，探究了滴液速率、抛光头转 速、抛光压力、抛光时长及晶片吸附方式等工艺参数对晶片表面粗糙度的影响，并对工艺参数进行了优化，最终 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子级光滑碳化硅晶片。
2023-05-31 10:30:062215 
在各种行业的设备和系统中，油液固体颗粒都是一种非常常见的危害因素，它们可能导致机器和系统的故障或甚至损坏。油液污染对设备的危害。油液污染会导致润滑效果降低。机械设备的关键部位必须依靠油膜来防止直接
2023-05-30 11:19:41175 
去除残留的离子污染物以及清洗液残留液。 PBT-800P 水基PCBA离线清洗机 一：结构 清洗机结构包括壳体、内腔、管道、泵、篮筐和过滤系统等,应选用坚固耐用和安全防腐的材料,对清洗溶剂和去离子水安全。 二：功能 全自动清洗可自动控制清洗流程,并实时显示清洗状
2023-05-25 11:48:341460 印刷电路板的清洗作为一项增值的工艺流程,印制板清洗后可以去除产品在各道加工过程中表面污染物的沉积,而且能够降低产品可靠性在表面上污染物质等方面的安全风险。因此,现如今电路板生产中大部分都运用了清洗
2023-05-25 09:35:01879 
工业PCBA清洗设备是一种专门用于清洗印刷电路板组装(PCBA)的设备。在电子制造过程中，PCBA需要接受大量的焊接工艺，而这些焊接工艺可能会使得PCBA表面残留有化学物质或者金属粉尘等污染
2023-05-22 11:45:16438 PCBA加工后，表面层会有很多残余杂物，就像松香，助焊剂，再有锡渣等，这类杂物都是会对产品稳定性能产生影响，因此一定要通过pcba水清洗设备进行清洗。 PCBA助焊剂 清洗前 PCBA助焊剂 清洗
2023-05-19 09:59:181044 康宁 晶片表面形态测量系统） 行业简称：平面度测量仪 02产品特性 Tropel®FlatMaster® 测量设备40年来持续为半导
2023-05-17 10:23:16772 
抛光硅晶片是通过各种机械和化学工艺制备的。首先，硅单晶锭被切成圆盘（晶片），然后是一个称为拍打的扁平过程，包括使用磨料清洗晶片。通过蚀刻消除了以往成形过程中引起的机械损伤，蚀刻之后是各种单元操作，如抛光和清洗之前，它已经准备好为设备制造。
2023-05-16 10:03:00584 
晶圆清洗工艺的目的是在不改变或损坏晶圆表面或基板的情况下去除化学杂质和颗粒杂质。晶圆表面必须保持不受影响，这样粗糙、腐蚀或点蚀会抵消晶圆清洁过程的结果
2023-05-11 22:03:03783 就微粒污染而言，不同的微电子工艺需要非常干净的表面。其中，直接晶片粘接在颗粒清洁度方面有非常积极的要求。直接晶圆键合是将两种材料结合在一起，只需将它们光滑干净的表面接触即可(图1)。在常温常压下，两种材料表面的分子/原子之间形成的范德华力会产生附着力
2023-05-09 14:52:19842 
上海锐族激光设备是上海专业生产手持式激光清洗机的厂家。锐族手持式激光清洗机采用轻便型的手持清洗激光器，具有无研磨、非接触特点，不但可以用来清洗有机的污染物，也可以用来清洗
2023-05-09 13:28:12
激光清洗不仅可用于清洗有机污染物质，还可以用来清洗无机化合物。激光清洗的原理是利用激光束的高能量密度，使污垢或涂层等物质发生蒸发或剥离，从而清洗表面。这个过程并不依赖于物质的化学性质，因此激光清洗
2023-05-08 17:11:07571 
激光清洗设备是一种利用激光束对表面进行清洗的设备。它可以通过高能量密度的激光束将表面的污垢、油渍、涂层等物质蒸发或剥离，从而实现对表面的清洁。相比传统的清洗方法，激光清洗设备具有高效、无损、环保
2023-05-08 17:10:07678 脉冲，在适度的主要参数下不容易损害金属材料板材。 激光清洗不仅可用于清洗有机污染物质，还可以用来清洗无机化合物，包含金属生锈、金属材料颗粒、尘土等。 1、非接触式清洗，不损伤零件基体; 2、精准清洗，可实现精确
2023-05-08 17:08:46422 
蒸发冷凝器是以水和空气作为冷却剂，它主要利用部分水的蒸发带走工艺介质冷凝过程放出热量。蒸发式冷凝器的冷却水系统在长时间使用之后，水蒸发，造成水中的杂质含量浓度升高，微生物的繁殖等，会造成冷却盘管表面
2023-05-05 15:40:50950 
颗粒污染是许多行业产量损失的主要原因，精密的光学表面需要尽可能地不含污染颗粒。
2023-05-03 19:03:24301 
在当今的器件中，最小结构的尺寸接近于需要从晶片表面移除的粒子的尺寸。在不破坏脆弱设备的情况下，在工艺步骤之间去除纳米颗粒的清洗过程的重要性正在不断增长。兆波清洗可用于单晶片或批量晶片处理。
2023-05-02 16:32:11865 
对机组运行汽轮机润滑油颗粒污染度（即颗粒度）异常升高的现象进行了调查分析，通过各种油液分析手段，采取逐步排除法，将引起颗粒度异常的原因范围缩小到了“外部污染”。使问题的解决有了明确的方向。
2023-04-25 13:58:26566 
清洗硅片（Wafer Clean）
清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少针孔和其它缺陷，提高光刻胶黏附性
基本步骤：化学清洗——漂洗——烘干。
2023-04-25 11:09:403859 
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：单晶的湿法蚀刻和红外吸收 编号：JFKJ-21-206 作者：炬丰科技 摘要 采用湿法腐蚀、x射线衍射和红外吸收等方法研究了物理气相色谱法生长AlN单晶的缺陷
2023-04-23 11:15:00118 书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：下一代半导体清洗科技材料系统 编号：JFKJ-21-188 作者：炬丰科技 摘要 本文简要概述了面临的挑战晶圆清洗技术正面临着先进的silicon技术向非平面
2023-04-23 11:03:00246 污染物的问题正日益突出。尽管传统表面贴装技术（SMT）很好地利用了低残留和免清洗的焊接工艺，在具有高可靠性的产品中，产品的结构致密化和部件的小型化装配使得越来越难以达到合适的清洁等级，同时由于清洁问题导致
2023-04-21 16:03:02
【摘要】 在半导体湿法工艺中，后道清洗因使用有机药液而与前道有着明显区别。本文主要将以湿法清洗后道工艺几种常用药液及设备进行对比研究，论述不同药液与机台的清洗原理，清洗特点与清洗局限性。【关键词
2023-04-20 11:45:00823 
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：HQ2和HF溶液循环处理 编号：JFKJ-21-213 作者：炬丰科技 摘要 采用原子显微镜研究了湿法化学处理过程中的表面形貌。在SC-1清洗过程中，硅表面
2023-04-19 10:01:00129 
PCB垫表面的铜在空气中容易氧化污染，所以必须对PCB进行表面处理。那么pcb线路板表面常见的处理方法有哪几种呢？
2023-04-14 14:34:15
干法蚀刻与湿法蚀刻之间的争论是微电子制造商在项目开始时必须解决的首要问题之一。必须考虑许多因素来决定应在晶圆上使用哪种类型的蚀刻剂来制作电子芯片，是液体（湿法蚀刻）还是气体（干法蚀刻）
2023-04-12 14:54:331004 半导体晶圆清洗设备市场预计将达到129\.1亿美元。到 2029 年。晶圆清洗是在不影响半导体表面质量的情况下去除颗粒或污染物的过程。器件表面晶圆上的污染物和颗粒杂质对器件的性能和可靠性有重大影响。本报告侧重于半导体晶圆清洗设备市场的不同部分（产品、晶圆尺寸、技术、操作模式、应用和区域）。
2023-04-03 09:47:511643 
清洗过程在半导体制造过程中，在技术上和经济上都起着重要的作用。超薄晶片表面必须实现无颗粒、无金属杂质、无有机、无水分、无天然氧化物、无表面微粗糙度、无充电、无氢。硅片表面的主要容器可分为颗粒、金属杂质和有机物三类。
2023-03-31 10:56:19314 
在整个晶圆加工过程中，仔细维护清洁的晶圆表面对于在半导体器件制造中获得高产量至关重要。因此，湿式化学清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中应用最重复的处理步骤。
2023-03-30 10:00:091940 
水泵叶轮的加工工艺主要在车床上完成，这样必然会残留杂质在叶轮表面，对后续的装配会产生影响。而就常规的手工清洗是达不到标准的。清洗行业中的超声波清洗机可以做到清除表面的杂质。
超声波清洗机的清洗
2023-03-23 14:38:200
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