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怎么进行离子束溅射来优化UV光学镀膜

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2023-03-13 12:18:53819

布勒莱宝光学HELIOS磁控溅射镀膜设备迎接半导体光学的挑战

有人曾这样形容磁控溅射技术——就像往平静的湖水里投入了石子溅起水花。磁控溅射真空镀膜技术是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition)的一种,其原理是:用带电粒子加速轰击靶材表面,发生表面原子碰撞并产生能量和动量的转移,使靶材原子从表面逸出并沉积在衬底材料上的过程。
2023-04-18 10:30:071772

与传统溅射或热蒸发技术相比,离子束辅助沉积有哪些优势?

离子束辅助沉积 (IBAD) 是一种薄膜沉积技术,可与溅射或热蒸发工艺一起使用,以获得具有出色工艺控制和精度的最高质量薄膜。
2023-06-08 11:10:22986

上海伯东大口径射频离子源成功应用于12英寸IBE 离子束蚀刻机

上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大口径射频离子源 RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE 离子束蚀刻机, 实现 300mm 和 200mm 硅片蚀刻, 刻蚀
2023-06-15 14:58:47665

KRi 射频离子源应用于国产离子束溅射镀膜机 IBSD

上海伯东客户某高校使用国产品牌离子束溅射镀膜机用于金属薄膜制备, 工艺過程中, 国产离子源钨丝仅使用 18个小时就会烧断, 必须中断镀膜工艺更换钨丝, 无法满足长时间离子束溅射镀膜的工艺要求, 导致
2023-05-25 15:53:36770

高精度电流传感器在真空镀膜设备中的应用

真空镀膜机作为一种关键设备,用于在真空环境下进行薄膜涂覆。在光学镀膜、金属镀膜等领域具有广泛应。对电流的准确监测和控制是实现高质量薄膜的关键。传统电流传感器在真空环境中存在温漂大、精度低等问题,制约
2023-06-13 15:06:38817

什么是磁控溅射 磁控溅射原理

电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射
2023-06-27 10:08:555855

光润真空推进复合集流体专用磁控溅射镀膜设备的研发生产

近日,复合集流体设备厂商——无锡光润真空科技有限公司(下称“光润真空”)完成天使轮融资,本轮融资由无锡市天使基金独家完成。本轮融资资金将主要用于推进复合集流体专用磁控溅射镀膜设备的研发生产,加速
2023-06-30 15:28:12525

AMEYA360分析蔡司用于亚10纳米级应用的离子束显微镜

NanoFab 显微镜可在镓、氖及氦离子束之间实现无缝切换。 产品特点: 快速亚 10 nm 结构加工 使用氖和氦离子束加工有超高精度要求的精细亚 10 纳米结构。无论是使用溅射、气体辅助切割、气体
2023-07-19 15:45:07244

美国KRi 离子源光通信应用, 助力5G技术发展

光通信的信息载体是光波, 为了进一步提高光通信系统中光信号的传输质量, 满足光通信系统的使用要求,  上海伯东美国 KRi 离子源通过离子束溅射, 辅助薄膜沉积等工艺在离子束镀膜系统中实现光模块
2023-08-07 14:08:31457

美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用

上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计提高吞吐量和覆盖沉积区.
2023-05-11 13:26:30414

KRi 射频离子源应用于车载镜片镀膜工艺,实现车载镜头减反, 塑胶镜片增透

在车载摄像头镜片加工镀膜环节, 镀膜机通过加装上海伯东美国 KRi 射频离子源对于加强膜层致密性, 实现车载镜头减反, 塑胶镜片增透, 明显提升工艺效果.
2023-05-11 13:36:08442

KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用

上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子束溅射沉积 和 IBD 离子束沉积是其典型的应用.
2023-05-25 10:18:34501

双束聚焦离子束FIBSEM在微电子技术中的应用

博仕检测聚焦离子束FIB-SEM测试案例
2023-09-04 18:49:41461

光学镀膜是如何工作的?

上海伯东提供适用于光学镀膜机的离子源和真空系统 光的干涉在薄膜光学中应用广泛. 光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜. 光学镀膜光学器件上的单个或多个材料沉积薄层, 实现
2023-09-08 11:34:11677

FIB-TEM进行微纳加工和原位研究分析

聚焦离子束与电子束曝光系统相似,由发射源、离子光柱、工作台、真空与控制系统等结构组成,其核心为离子光学系统,适用的是液态金属离子源(例如镓离子源)。
2023-10-10 12:49:18764

美国KRi射频离子源RFICP 220助力光学薄膜技术发展

上海伯东美国 KRi 高能量射频离子源 RFICP 220 应用于光学镀膜机, 增强光学基片反射及透射率, 助力光学薄膜技术发展.
2023-11-14 12:57:22305

光纤传感器在磁控溅射镀膜温度的监测

磁控溅射(Magnetron Sputtering)是一种常见的物理气相沉积 (PVD) 工艺,具有速度快、温度低、损伤小等优点,其关键特点是使用一个磁场来控制并增强溅射过程。已发展成为工业镀膜中非
2023-12-04 11:17:41245

KRi 离子源 e-beam 电子蒸发系统辅助镀膜应用

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积
2023-05-25 10:22:37

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